[특허]비열 플라즈마 수처리 장치와 이를 이용한 수처리 방법

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비열 플라즈마 수처리 장치와 이를 이용한 수처리 방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC8판)	C02F-001/30 C02F-001/48
출원번호	10-1998-0050298 (1998-11-23)
공개번호	10-2000-0033448 (2000-06-15)
DOI	http://doi.org/10.8080/1019980050298
발명자 / 주소	박원규 / 서울특별시 서대문구 홍제동 *- 로얄빌라트 ***
출원인 / 주소	박원규 / 경기도 화성시 병점동 신창차아파트 동 **호
대리인 / 주소	김영철; 김순영 (KIM, Young Chol) 서울 종로구 수송동 *- 석탄회관빌딩 층(케이씨엘특허법률사무소); 서울 종로구 수송동 -* 석탄회관빌딩 **층(케이씨엘특허법률사무소)
심사청구여부	있음 (1998-11-23)
심사진행상태	거절결정(일반)
법적상태	거절

초록 ▼

본 발명은 비열 플라즈마 수처리 장치와 이를 이용하는 수처리 방법에 관한 것으로서, 본 발명에 의한 비열 플라즈마 수처리 장치는, 고전압의 전류가 인가되는 제1전극은 금속판에 유전체가 접합된 무성 방전부이고, 고전압의 전류가 인가되는 제2전극은 금속판에 돌기가 형성되어 있는 코로나 방전부로 구성되고, 상기 제1전극인 무성 방전부와 상기 제2전극인 코로나 방전부 사이로 물이 통과하도록 하는 구조를 가지는 비열 플라즈마 발생기, 및 상기 비열 플라즈마 발생기의 배출구 높이를 조정하여 상기 제1전극 및 상기 제2전극의 경사를 조절함에 의하여 궁극적으로 상기 제1전극과 제2전극 사이로 통과하는 물의 통과 시간을 조절하는 경사 조절부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의한 비열 플라즈마 수처리 장치를 이용한 수처리 방법은, 염화제일철 또는 염화제이철을 투입하는 전처리단계, 본 발명에 의한 비열 플라즈마 수처리 장치의 제1전극인 코로나 방전부와 제2전극인 무성방전부 사이로 물을 통과시키는 단계; 및 상기한 단계를 거친 처리수를 응집 침전하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의한 비열 플라즈마 수처리 장치는 비열 플라즈마 발생기를 물속에 담그지 않고서도 비열 플라즈마 발생기에 의하여 발생된 라디칼 등이 소멸되지 않고 물과 신속하게 반응시킬 수 있으며, 비열 플라즈마 발생기에 의하여 발생된 라디칼 등과 물과의 접촉 시간을 조절할 수 있을 뿐만 아니라, 비열 플라즈마를 발생하는데 있어서, 무성 방전과 코로나 방전의 두 가지 방식을 모두 이용한다.

대표청구항

고전압의 전류가 인가되는 제1전극으로서, 금속판에 유전체가 접합된 무성 방전부; 및 고전압의 전류가 인가되는 제2전극으로서, 금속판에 돌기가 형성되어 있는 코로나 방전부로 구성되고, 상기 제1전극인 무성 방전부와 상기 제2전극인 코로나 방전부 사이로 물이 통과하도록 하는 구조를 가지는 비열 플라즈마 수처리 장치.

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특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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