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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-1998-0056586 (1998-12-17) |
공개번호 | 10-2000-0040849 (2000-07-05) |
등록번호 | 10-0282482-0000 (2000-11-28) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1019980056586 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (1998-12-17) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
본 발명은 반도체 세정용 초고순도 이소프로필 알코올 정제 방법에 관한 것으로서, 종래의 이소프로필 알코올 정제 공정중에 발생하는 금속이온 등의 무기불순물을 극미량으로 관리할 수 있도록 금속이온 등의 무기불순물을 제거할 수 있는 공정을 이소프로필 알코올 정제공정에 포함시킴으로써, 최종 정제 제품이 256MB 이상의 반도체용 세정제로 사용 가능한 초고순도 이소프로필 알코올로 정제되도록 한 정제 방법을 제공하고자 한 것이다.
반도체 세정용 초고순도 이소프로필 알코올 정제 방법에 있어서, 정제 원료인 일반적 이소프로필 알코올이 저장되어 있는 공급장치(20)로부터 상기 이소프로필 알코올이 정제용 설비장치(10)내로 유입되어 정제되는 공정과, 이 정제된 이소프로필 알코올이 금속이온 등의 무기불순물 제거용 제 1필터(14)를 경유하는 공정과, 이 제 1필터(14)를 경유한 이소프로필 알코올이 저장탱크(18)에 저장되는 공정과, 이 저장탱크(18)로부터 이소프로필 알코올이 유출되어 입자 제거용 필터(12)를 경유하는 공정과, 이 입자 제거용 필터(12)를 경유한
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