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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2000-0035238 (2000-06-26) |
공개번호 | 10-2002-0001114 (2002-01-09) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020000035238 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
법적상태 | 취하 |
반도체 기판 내의 위치에 관계없이 균일한 식각이 이루어지도록 하는 반도체 소자 제조용 가스 분사장치를 개시한다. 이 가스분사장치는, 가스 공급관으로부터 공급된 가스를 소정 챔버내로 도입하기 위한 도입관과, 가스 도입관의 일 단에 마련되고 다수의 분사구를 구비하여 가스를 챔버 내에 분사하기 위한 분사 포트(port)로 이루어진 가스 분사장치에 있어서, 도입관의 일 단으로부터 분리된 2개 이상의 분사 포트를 구비한다.
가스 공급관으로부터 공급된 가스를 소정 챔버내로 도입하기 위한 도입관과, 상기 가스 도입관의 일 단에 마련되고 다수의 분사구를 구비하여 상기 가스를 상기 챔버 내에 분사하기 위한 분사 포트(port)로 이루어진 가스 분사장치에 있어서,상기 도입관의 일 단으로부터 분리된 2개 이상의 분사 포트를 구비하는 것을 특징으로 하는 가스 분사장치.
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