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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2001-0045012 (2001-07-26) |
공개번호 | 10-2002-0010514 (2002-02-04) |
등록번호 | 10-0585248-0000 (2006-05-24) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020010045012 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2004-02-25) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
본 발명은 고탄성율과 저수축성을 갖는 동시에, 딥 처리시의 강력 이용율이 우수한 고무 보강용 폴리에스테르 섬유 및 딥 코드를 제공하는 것을 목적으로 하며, 분자쇄의 전체 반복 단위의 90몰% 이상이 폴리에틸렌 테레프탈레이트로 이루어지는 폴리에스테르 섬유로서, 고유 점도 [IV]가 0.85 dl/g 이상이며, 하기 (a)∼(c)의 특성을 동시에 만족시키는 것을 특징으로 하는 폴리에스테르 섬유를 제공한다: (a) 강도≥6.0 cN/dtex 이며, 강도×(절단 신도)0.5≤26.0 cN/dtex·%0.5(b) 단사 섬도≤5.0 dtex
분자쇄의 전체 반복 단위의 90몰% 이상이 폴리에틸렌 테레프탈레이트로 이루어지는 폴리에스테르 섬유로서, 고유 점도 (IV)가 0.85 dℓ/g 이상이며, 하기 (a)∼(d)의 특성을 동시에 만족시키는 것을 특징으로 하는 폴리에스테르 섬유:(a) 강도≥6.0 cN/dtex (b) 강도×(절단 신도)0.5≤26.0 cN/dtex·%0.5(c) 단사 섬도≤5.0 dtex (d) 110Hz의 동적 점탄성 측정에 있어서의 손실 탄젠트(tanδ)의 주분산 피크 온도≤147.0℃
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