초록

A) 피콜리나펜; 또는 이의 환경학적으로 상용성인 염 중 하나; <화학식 I>B) 1종 이상의 화학식 II (여기서 A, B, X 및 R1 내지 R3는 명세서에 주어진 의미를 가짐)의 술포닐우레아의 상승작용적 유효량; 및 필요한 경우 <화학식 II>C) 1종 이상의 완화제를 포함하는 상승작용적 제초제 혼합물. 이 혼합물을 포함하는 조성물, 이 조성물의 제조 방법 및 원하지 않는 식물의 방제를 위한 이들의 용도.

대표청구항 ▼

본원 발명은 A) 피콜리나펜 (화학식 I)또는 이의 환경학적으로 상용성인 염 중 하나| 및B) 1종 이상의 화학식 II의 술포닐우레아 또는 이의 환경학적으로 상용성인 염, 에스테르 또는 아미드 중 하나의 상승작용적 유효량(여기서, A는 A1, A2, A3, A4 또는 A5이고, 여기서, R4는 할로겐, C1-C4-할로알킬, C1-C4-알콕시, C1-C4-할로알콕시, C1-C2-알콕시-C1-C4-알콕시, 시클로프로필카르보닐, 디(C1-C4-알킬)아미노카르보닐 또는 히드록시카르보닐| R5는 수소, 할로겐 또는 C1-C4-알킬술포닐아미노

본원 발명은 A) 피콜리나펜 (화학식 I)또는 이의 환경학적으로 상용성인 염 중 하나| 및B) 1종 이상의 화학식 II의 술포닐우레아 또는 이의 환경학적으로 상용성인 염, 에스테르 또는 아미드 중 하나의 상승작용적 유효량(여기서, A는 A1, A2, A3, A4 또는 A5이고, 여기서, R4는 할로겐, C1-C4-할로알킬, C1-C4-알콕시, C1-C4-할로알콕시, C1-C2-알콕시-C1-C4-알콕시, 시클로프로필카르보닐, 디(C1-C4-알킬)아미노카르보닐 또는 히드록시카르보닐| R5는 수소, 할로겐 또는 C1-C4-알킬술포닐아미노-C1-C4-알킬|R6은 히드록시카르보닐 또는 C1-C4-알킬술포닐|R7은 수소 또는 C1-C4-할로알킬|R8은 히드록시카르보닐|R9는 2-메틸-테트라졸-5-일 또는 히드록시카르보닐|R10은 수소 또는 할로겐|R11은 C1-C4-알킬|R12는 할로겐 또는 C1-C4-알킬술포닐|B는 -O-, -NH-, -CH2- 또는 화학결합|R1은 수소 또는 C1-C4-알킬|R2는 할로겐, C1-C4-알킬, C1-C4-할로알킬, C1-C4-알콕시, C1-C4-할로알콕시, C1-C4-알킬아미노 또는 디(C1-C4-알킬)-아미노|R3는 C1-C4-알킬, C1-C4-할로알콕시 또는 C1-C4-알콕시|X는 CH 또는 N임)| 및, 만일 필요하다면,C) 디클로르미드, 베녹사코르, LAB 145 138, MG-191, 푸릴라졸, 시오메트리닐, 옥사베트리닐, 플룩소페님, 플루라졸, 나프탈산 무수물, 펜클로림, 펜클로라졸-에틸, 메펜피르, 이속사디펜, 클로퀸토세트, 1-에틸-4-히드록시-3-(1H-테트라졸-5-일)-1H-퀴놀린-2-온, 4-카르복시메틸-크로만-4-카르복실산, N-(2-메톡시벤질)-4-(3-메틸우레이도)-벤젠술폰아미드 및 (3-옥소-이소티오크로만-4-일리덴메톡시)-아세트산 메틸 에스테르의 군으로부터 선택되는 1종 이상의 완화제| 또는 이의 환경학적으로 상용성인 염, 에스테르 또는 아미드 중 하나 를 포함하는 상승작용적 제초제 혼합물.제1항에 있어서, 성분 B)로서, A는 A1이며, 여기서 R4는 할로겐, C1-C3-할로알킬, C1-C2-알콕시, C1-C2-할로알콕시, C1-C2-알콕시-C1-C2-알콕시, 시클로프로필카르보닐, 디(C1-C2-알킬)아미노-카르보닐, 히드록시카르보닐 또는 메톡시카르보닐, 에톡시카르보닐 또는 옥세탄-3-일옥시카르보닐|R5는 수소, 할로겐 또는 C1-C2-알킬술포닐아미노-C1-C2-알킬| R1은 수소 또는 C1-C2-알킬| R2는 할로겐, C1-C2-알킬, C1-C2-할로알킬, C1-C2-알콕시, C1-C2-할로알콕시, C1-C2-알킬아미노 또는 디(C1-C2-알킬)-아미노| R3은 C1-C2-알킬, C1-C3-알콕시 또는 C1-C2-할로알콕시| X는 CH 또는 N인 1종 이상의 화학식 II의 술포닐우레아 또는 이의 환경학적으로 상용성인 염 중 하나를 포함하는 상승작용적 제초제 혼합물.제1항에 있어서, 성분 B)로서, A는 A2이며, 여기서R6는 C1-C2-알킬술포닐, 히드록시카르보닐 또는 메톡시카르보닐| R7은 수소 또는 C1-C2-할로알킬| B는 화학결합| R1은 수소| R2는 C1-C2-알콕시| R3는 C1-C2-알콕시| X는 CH인 1종 이상의 화학식 II의 술포닐우레아 또는 이의 환경학적으로 상용성인 염 중 하나를 포함하는 상승작용적 제초제 혼합물.제1항에 있어서, 성분 B)로서,A는 A3이며, 여기서R8은 히드록시카르보닐 또는 메톡시카르보닐| B는 화학결합| R1은 수소| R2는 C1-C2-알킬| R3는 C1-C2-알콕시| X는 CH인 1종 이상의 화학식 II의 술포닐우레아 또는 이의 환경학적으로 상용성인 염 중 하나를 포함하는 상승작용적 제초제 혼합물.제1항에 있어서, 성분 B)로서, A는 A4이며, 여기서R9는 2-메틸-테트라졸-5-일, 히드록시카르보닐, 메톡시카르보닐 또는 에톡시카르보닐|R10은 수소 또는 할로겐| R11은 C1-C2-알킬| B는 화학결합| R1은 수소| R2는 C1-C2-알콕시|R3는 C1-C2-알콕시| X는 CH인 1종 이상의 화학식 II의 술포닐우레아 또는 이의 환경학적으로 상용성인 염 중 하나를 포함하는 상승작용적 제초제 혼합물.제1항에 있어서, 성분 B)로서, A는 A5이며, 여기서R12는 할로겐, 바람직하게는 염소| 또는 C1-C2-알킬술포닐| B는 화학결합|R1은 수소| R2는 C1-C2-알콕시| R3는 C1-C2-알콕시| X는 CH인 1종 이상의 화학식 II의 술포닐우레아 또는 이의 환경학적으로 상용성인 염 중 하나를 포함하는 상승작용적 제초제 혼합물.제1항에 있어서, 아짐술푸론, 벤술푸론, 클로리무론, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루피르술푸론, 할로술푸론, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론, 니코술푸론, 프리미술푸론, 프로술푸론, 피라조술푸론, 림술푸론, 술포메투론, 술포술푸론, 티펜술푸론, 트리아술푸론, 트리베누론, 트리플루술푸론, 트리플록시술푸론 또는 트리토술푸론의 군으로부터 선택되는 1종 이상의 술포닐우레아, 또는 이의 환경학적으로 상용성인 염 또는 에스테르를 성분 B)로서 포함하는 상승작용적 제초제 혼합물.제1항에 있어서, 아짐술푸론, 벤술푸론, 클로리무론, 클로르술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루피르술푸론, 할로술푸론, 이마조술푸론, 메트술푸론, 니코술푸론, 프리미술푸론, 프로술푸론, 피라조술푸론, 림술푸론, 술포메투론, 술포술푸론, 티펜술푸론, 트리아술푸론, 트리베누론, 트리플루술푸론, 트리플록시술푸론 또는 트리토술푸론의 군으로부터 선택되는 1종 이상의 술포닐우레아, 또는 이의 환경학적으로 상용성인 염 또는 에스테르를 성분 B)로서 포함하는 상승작용적 제초제 혼합물.제1항에 있어서, 아짐술푸론, 벤술푸론, 클로리무론, 클로르술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 할로술푸론, 이마조술푸론, 니코술푸론, 프리미술푸론, 프로술푸론, 피라조술푸론, 림술푸론, 술포메투론, 트리아술푸론 또는 트리플루술푸론의 군으로부터 선택되는 1종 이상의 술포닐우레아, 또는 이의 환경학적으로 상용성인 염 또는 에스테르를 성분 B)로서 포함하는 상승작용적 제초제 혼합물.제1항에 있어서, 클로르술푸론, 플루피르술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론, 프로술푸론, 술포술푸론, 티펜술푸론, 트리아술푸론, 트리베누론 또는 트리토술푸론의 군으로부터 선택되는 1종 이상의 술포닐우레아, 또는 이의 환경학적으로 상용성인 염 또는 에스테르를 성분 B)로서 포함하는 상승작용적 제초제 혼합물.제1항에 있어서, 클로르술푸론, 플루피르술푸론, 메트술푸론, 프로술푸론, 술포술푸론, 티펜술푸론, 트리아술푸론, 트리베누론 또는 트리토술푸론의 군으로부터 선택되는 1종 이상의 술포닐우레아, 또는 이의 환경학적으로 상용성인 염 또는 에스테르를 성분 B)로서 포함하는 상승작용적 제초제 혼합물.제1항에 있어서, 클로르술푸론, 프로술푸론 또는 트리아술푸론의 군으로부터 선택되는 1종 이상의 술포닐우레아, 또는 이의 환경학적으로 상용성인 염 또는 에스테르를 성분 B)로서 포함하는 상승작용적 제초제 혼합물.제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 성분 C)로서 적어도 클로퀸토세트, 이속사디펜 또는 메펜피르를 포함하는 상승작용적 제초제 혼합물.제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 아세틸-CoA 카르복실화효소 억제제 (ACC), 아세토락테이트 합성효소 억제제 (ALS), 아미드, 옥신 제초제, 옥신 수송 억제제, 카로티노이드 생합성 억제제, 에놀피루빌시키메이트 3-포스페이트 합성효소 억제제 (EPSPS), 글루타민 합성효소 억제제, 지질 생합성 억제제, 체세포분열 억제제, 프로토포르피리노겐 IX 산화효소 억제제, 광합성 억제제, 상승작용제, 성장 물질, 세포벽 생합성 억제제 및 다른 제초제 중 1종을 성분 D)로서 추가로 포함하는 상승작용적 제초제 혼합물.제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 단지 피콜리나펜 및 군 B)의 1종의 화합물만을 활성 성분으로 포함하는 상승작용적 제초제 혼합물.제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 단지 피콜리나펜, 군 B)의 1종의 화합물 및 군 C)의 1종의 화합물만을 활성 성분으로 포함하는 상승작용적 제초제 혼합물.제1항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서, 군 A) 및 B)의 화합물의 비가 1:0.0002 내지 1:50의 범위인 상승작용적 제초제 혼합물.제1항 내지 제14항, 또는 제16항 중 어느 한 항에 있어서, 군 A) 및 C)의 화합물의 비가 1:0.0002 내지 1:50의 범위인 상승작용적 제초제 혼합물.제1항 내지 제18항 중 어느 한 항의 상승작용적 제초제 혼합물의 제초 활성량, 1종 이상의 액체 및(또는) 고체 담체 및 필요한 경우 1종 이상의 계면활성제를 포함하는, 제초제 조성물.군 A), B), 및 필요한 경우 C), 및 필요한 경우 D)의 화합물, 1종 이상의 액체 및(또는) 고체 담체 및 필요한 경우, 1종 이상의 계면활성제가 혼합되는, 제18항의 제초제 조성물의 제조 방법.원하지 않는 식물의 출현 중 및(또는) 출현 후에, 제1항 내지 제18항 중 어느 한 항의 상승작용적 제초제 혼합물을 시용하는 단계를 포함하며, 이때 군 A), B), 및 필요한 경우 C), 및 필요한 경우 D)의 활성 화합물이 동시 또는 순차적으로 시용될 수 있는, 원하지 않는 식물군의 방제 방법.