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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2006-0130419 (2006-12-19) |
공개번호 | 10-2008-0057087 (2008-06-24) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020060130419 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
법적상태 | 취하 |
웨이퍼 습식 세정 장비는, 웨이퍼가 로딩되는 로더부; 상기 로더부에서 이송된 웨이퍼의 가장자리 부분 오염물질을 제거하는 세정 장치를 구비한 제1세정 조(Bath); 상기 제1세정 조에서 이송된 웨이퍼에 부착되어 있는 유기물, 금속 및 미립자를 화학용액으로 제거하는 다수의 제2세정 조; 상기 제2세정 조 사이 각각에 배치되어 웨이퍼를 린스(Rinse)하는 다수의 린소 조; 상기 린스 조로부터 이송된 웨이퍼 표면의 수분을 제거하는 드라이어(Dryer)부; 및 상기 드라이어부에서 수분이 제거된 웨이퍼를 언로딩시키는 언로더부를 구비하며,
웨이퍼가 로딩되는 로더부;상기 로더부에서 이송된 웨이퍼의 가장자리 부분 오염물질을 제거하는 세정 장치를 구비한 제1세정 조(Bath);상기 제1세정 조에서 이송된 웨이퍼에 부착되어 있는 유기물, 금속 및 미립자를 화학용액으로 제거하는 다수의 제2세정 조;상기 제2세정 조 사이 각각에 배치되어 웨이퍼를 린스(Rinse)하는 다수의 린소 조;상기 린스 조로부터 이송된 웨이퍼 표면의 수분을 제거하는 드라이어(Dryer)부; 및상기 드라이어부에서 수분이 제거된 웨이퍼를 언로딩시키는 언로더부를 구비하며, 상기 제1세정 조에 구비된 세정 장치
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