로우 로버트 엘리어트
/ 영국 플린트셔 씨에이치* *이엘 너크위즈 포드 와이 펜터롱이니어도우
출원인 / 주소
이네오스 플루어 홀딩즈 리미티드 / 영국, 체쉬어 (우편번호 더블유에이* *큐에프) 런콘 더 히스 (피. 오. 박스 **)
대리인 / 주소
리앤목특허법인
(Y.P.LEE, MOCK&PARTNERS)
서울 서초구 서초동****-*번지 고려빌딩(리앤목 특허법인)
심사진행상태
취하(심사미청구)
법적상태
취하
초록▼
하나 이상의 원하지 않는 화합물의 농도를 감소시키기 위해, 하나 이상의 원하지 않는 화합물 및 하나 이상의 원하는 화합물을 포함하는 조성물을 처리하는 방법이 기재된다. 상기 방법은 하기 단계를 포함한다: (1) 상기 조성물을 (히드로)플루오로카본을 포함하는 추출 용매와 접촉하는 단계, 및 (2) 하나 이상의 원하는 화합물로부터 상기 용매를 분리하는 단계로서, 하나 이상의 원하는 화합물은 물이 유일한 원하는 물질이 아니라면, 무기 물질이다. 상기 방법은 무기 플루오라이드에서 황 및/또는 질소 함유 화합물의 함량을 감소시키는데 특히
하나 이상의 원하지 않는 화합물의 농도를 감소시키기 위해, 하나 이상의 원하지 않는 화합물 및 하나 이상의 원하는 화합물을 포함하는 조성물을 처리하는 방법이 기재된다. 상기 방법은 하기 단계를 포함한다: (1) 상기 조성물을 (히드로)플루오로카본을 포함하는 추출 용매와 접촉하는 단계, 및 (2) 하나 이상의 원하는 화합물로부터 상기 용매를 분리하는 단계로서, 하나 이상의 원하는 화합물은 물이 유일한 원하는 물질이 아니라면, 무기 물질이다. 상기 방법은 무기 플루오라이드에서 황 및/또는 질소 함유 화합물의 함량을 감소시키는데 특히 적합하다.
대표청구항▼
하기 단계를 포함하는, 하나 이상의 원하지 않는 화합물의 농도를 감소시키기 위해, 하나 이상의 원하지 않는 화합물 및 하나 이상의 원하는 화합물을 포함하는 조성물을 처리하는 방법:(1) 상기 조성물을 (히드로)플루오로카본을 포함하는 추출 용매와 접촉하는 단계, 및(2) 하나 이상의 원하는 화합물로부터 상기 용매를 분리하는 단계로서, 물이 유일한 원하는 물질이 아니라면, 하나 이상의 원하는 화합물은 무기 물질인 방법.제 1 항에 있어서,상기 무기 물질은 할로겐 함유 무기 물질인 것을 특징으로 하는 방법.제 2 항에 있어서,상기 무기
하기 단계를 포함하는, 하나 이상의 원하지 않는 화합물의 농도를 감소시키기 위해, 하나 이상의 원하지 않는 화합물 및 하나 이상의 원하는 화합물을 포함하는 조성물을 처리하는 방법:(1) 상기 조성물을 (히드로)플루오로카본을 포함하는 추출 용매와 접촉하는 단계, 및(2) 하나 이상의 원하는 화합물로부터 상기 용매를 분리하는 단계로서, 물이 유일한 원하는 물질이 아니라면, 하나 이상의 원하는 화합물은 무기 물질인 방법.제 1 항에 있어서,상기 무기 물질은 할로겐 함유 무기 물질인 것을 특징으로 하는 방법.제 2 항에 있어서,상기 무기 물질은 불소 함유 무기 물질인 것을 특징으로 하는 방법.제 3 항에 있어서,상기 불소 함유 물질은 알칼리 금속 플루오라이드 또는 알칼리 토금속 플루오라이드인 것을 특징으로 하는 방법.제 4 항에 있어서,상기 불소 함유 물질은 불화칼슘 또는 불화칼륨인 것을 특징으로 하는 방법.제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,하나 이상의 원하지 않는 화합물은 악취가 나는 것을 특징으로 하는 방법.제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,하나 이상의 원하지 않는 화합물은 황 및/또는 질소 함유 화합물인 것을 특징으로 하는 방법.제 7 항에 있어서,상기 원하지 않는 황 함유 화합물은 적어도 이황화탄소, 황화카르보닐, 디메틸디설피드, 에탄티올, 디에틸디설피드, 1,3-디히드로-2H-이미다졸-2-티온, 2-(메틸티오)-프로판, 2-(메틸티오)-부탄, 1-(메틸티오)-부탄, 메틸에틸디설피드, 2-(에틸티오)-부탄, sec-부틸 이소프로필설피드, 1-(에틸티오)-부탄, 1-[(메틸에틸)티오]부탄 및 비스[2-(에틸티오)에틸]에테르 중의 하나인 것을 특징으로 하는 방법.제 7 항에 있어서,상기 원하지 않는 질소 함유 화합물은 적어도 암모니아, 니트로메탄, 메틸아민, 디메틸아민, 트리메틸아민, LDA (리튬 디이소프로필아미드), 히드록실아민, 요소, 에틸아민, 디에틸아민, 트리에틸아민, 1,3-디히드로-2H-이미다졸-2-티온, N,N-디메틸-에탄티오아미드 및 2,2-디메톡시-N-메틸-에탄아민 중의 하나인 것을 특징으로 하는 방법.제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 조성물은 고체 상태 또는 슬러리 형태인 것을 특징으로 하는 방법.제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 조성물은 액체상인 것을 특징으로 하는 방법.제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 추출 용매는 (히드로)플루오로메탄, (히드로)플루오로에탄 및 (히드로)플루오로프로판으로부터 선택된 하나 이상의 (히드로)플루오로카본을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.제 12 항에 있어서,상기 추출 용매는 트리플루오로메탄(R-23), 플루오로메탄(R-41), 디플루오로메탄(R-32), 펜타플루오로에탄(R-125), 1,1,1-트리플루오로에탄(R-143a), 1,1,2,2-테트라플루오로에탄(R-134), 1,1,1,2-테트라플루오로에탄(R-134a), 1,1-디플루오로에탄(R-152a), 1,1,1,3,3-펜타플루오로프로판(R-245fa), 1,1,2,2,3-펜타플루오로프로판(R-245ca), 1,1,1,2,3-펜타플루오로프로판(R-245eb), 1,1,2,3,3-펜타플루오로프로판(R-245ea), 1,1,1,2,3,3-헥사플루오로프로판(R-236ea), 1,1,1,2,2,3-헥사플루오로프로판(R-236cb), 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판(R-236fa), 1,1,1,2,3,3,3-헵타플루오로프로판(R-227ea) 및 1,1,1,2,2,3,3-헵타플루오로프로판(R-227ca)으로부터 선택된 하나 이상의 (히드로)플루오로카본을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.제 13 항에 있어서,상기 추출 용매는 1,1,1,2-테트라플루오로에탄(R-134a), 1,1,1,3,3-펜타플루오로프로판(R-245fa), 1,1,1,2,3,3-헥사플루오로프로판(R-236ea) 및 1,1,1,2,3,3,3-헵타플루오로프로판(R-227ea)으로부터 선택된 하나 이상의 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.제 14 항에 있어서,상기 추출 용매는 1,1,1,2-테트라플루오로에탄(R-134a)을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.제 1 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 추출 용매는 (히드로)플루오로카본 외에 공용매를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.제 16 항에 있어서,상기 공용매는 할로겐이 없는 것을 특징으로 하는 방법.제 1 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항에 있어서,0 내지 30℃의 온도에서 수행되는 것을 특징으로 하는 방법.제 1 항 내지 제 18 항 중 어느 한 항에 있어서,1 내지 30 바의 압력에서 수행되는 것을 특징으로 하는 방법.
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