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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2009-0058548 (2009-06-29) |
공개번호 | 10-2011-0001145 (2011-01-06) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020090058548 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
법적상태 | 취하 |
설계된 테스트 패턴들의 선폭과 실제 테스트 마스크 상에 형성되는 테스트 패턴들의 선폭과의 차이를 측정하여 민투타겟(MTT) 데이터를 얻고, 웨이퍼 상으로 전사할 패턴의 원본 레이아웃을 얻은 후, 원본 레이아웃을 광근접효과보정(OPC)하고, 광근접효과보정된 레이아웃에 민투타겟(MTT) 데이터를 이용하여 바이어스(bias)를 인가하여 선폭을 수정한 후, 선폭이 수정된 레이아웃을 검증하여 취약 지점을 검출한다. 검증된 광근접효과보정 레이아웃을 이용하여 마스크를 제작하는 마스크 제조 방법을 제시한다.
설계된 테스트 패턴들의 선폭과 실제 테스트 마스크 상에 형성되는 테스트 패턴들의 선폭과의 차이를 측정하여 민투타겟(MTT) 데이터를 얻는 단계;웨이퍼 상으로 전사할 패턴의 원본 레이아웃을 얻는 단계;상기 원본 레이아웃을 광근접효과보정(OPC)하는 단계;상기 광근접효과보정된 레이아웃에 상기 민투타겟(MTT) 데이터를 이용하여 바이어스(bias)를 인가하여 선폭을 수정하는 단계;상기 선폭이 수정된 레이아웃을 검증하여 취약 지점을 검출하는 단계; 및상기 검증된 광근접효과보정 레이아웃을 이용하여 마스크를 제작하는 단계를 포함하는 마스크 제
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