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연합인증

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박막 두께 불균일성 및 파티클 성능이 개선된 CVD 장치

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • H01L-021/67
  • C23C-016/44
  • C23C-016/455
  • H01L-021/687
출원번호 10-2011-7027732 (2011-11-21)
공개번호 10-2012-0027257 (2012-03-21)
등록번호 10-1671158-0000 (2016-10-26)
우선권정보 미국(US) 12/763,522 (2010-04-20);미국(US) 61/171,132 (2009-04-21)
국제출원번호 PCT/US2010/031723 (2010-04-20)
국제공개번호 WO 2010/123877 (2010-10-28)
번역문제출일자 2011-11-21
DOI http://doi.org/10.8080/1020117027732
발명자 / 주소
  • 트란, 빈 / 미국 ***** 캘리포니아 샌어제이 서트클리프 애브뉴 ****
  • 쿠이, 안큉 / 미국 ***** 캘리포니아 써니베일 아뷰투스 애브뉴 ***
  • 황, 버나드, 엘. / 미국 ***** 캘리포니아 산타 클라라 산타 마리아 애브뉴 ****
  • 응우옌, 손, 티. / 미국 ***** 캘리포니아 샌어제이 도우 드라이브 ****
  • 응우옌, 안, 엔. / 미국 ***** 캘리포니아 밀피타스 콜럼버스 드라이브 ****
  • 슈터, 신, 엠. / 미국 ***** 캘리포니아 샌어제이 해리스버그 플레이스 ***
  • 타오, 시안쯔이 / 미국 ***** 캘리포니아 샌어제이 팔라 메사 드라이브 ****
출원인 / 주소
  • 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 / 미국 ***** 캘리포니아 산타 클라라 바우어스 애브뉴 ****
대리인 / 주소
  • 특허법인 남앤드남
심사청구여부 있음 (2015-04-20)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

본 발명의 실시예들은 화학기상증착(CVD)에 의한 것과 같이 기판 상에 층을 증착하기 위한 개선된 장치를 제공한다.본 명세서에 개시된 본 발명에 따른 장치는 주어진 프로세스 챔버 내에서 박막 두께 불균일성이 감소된 박막의 증착, 개선된 파티클 성능(예를 들어, 프로세스 챔버에서 형성된 박막 상에서 파티클의 감소), 복수의 프로세스 챔버 간의 챔버 대 챔버 성능 매칭, 및 개선된 프로세스 챔버 내구성 중 하나 또는 그 이상을 유리하게 가능하게 한다.

대표청구항

하부 조립체 및 힌지에 의해 상기 하부 조립체에 이동가능하게 연결된 상부 조립체를 가진 프로세싱 챔버 - 상기 하부 조립체는 챔버 본체로서 상기 챔버 본체 내에 배치된 기판 지지 조립체를 구비하는 챔버 본체를 포함하고, 상기 상부 조립체는 덮개를 포함함 - ; 및 가스 패널로부터 프로세싱 챔버의 내부까지 가스의 흐름을 용이하게 하기 위해 상기 챔버 본체 및 상기 덮개에 연결된 가스 피드스루(feedthrough) - 상기 가스 피드스루는 상기 덮개에 외부에서(externally) 연결된 상부 본체와 상기 챔버 본체에 외부에서 연결된

이 특허에 인용된 특허 (1)

  1. [일본] FORMED FILM TREATMENT DEVICE | TANAKA KIYOSHI, YONENAGA TOMIHIRO

이 특허를 인용한 특허 (1)

  1. [한국] 유체투과부재 | 안범모, 박승호, 송태환
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