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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2011-7027732 (2011-11-21) | |
공개번호 | 10-2012-0027257 (2012-03-21) | |
등록번호 | 10-1671158-0000 (2016-10-26) | |
우선권정보 | 미국(US) 12/763,522 (2010-04-20);미국(US) 61/171,132 (2009-04-21) | |
국제출원번호 | PCT/US2010/031723 (2010-04-20) | |
국제공개번호 | WO 2010/123877 (2010-10-28) | |
번역문제출일자 | 2011-11-21 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020117027732 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2015-04-20) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명의 실시예들은 화학기상증착(CVD)에 의한 것과 같이 기판 상에 층을 증착하기 위한 개선된 장치를 제공한다.본 명세서에 개시된 본 발명에 따른 장치는 주어진 프로세스 챔버 내에서 박막 두께 불균일성이 감소된 박막의 증착, 개선된 파티클 성능(예를 들어, 프로세스 챔버에서 형성된 박막 상에서 파티클의 감소), 복수의 프로세스 챔버 간의 챔버 대 챔버 성능 매칭, 및 개선된 프로세스 챔버 내구성 중 하나 또는 그 이상을 유리하게 가능하게 한다.
하부 조립체 및 힌지에 의해 상기 하부 조립체에 이동가능하게 연결된 상부 조립체를 가진 프로세싱 챔버 - 상기 하부 조립체는 챔버 본체로서 상기 챔버 본체 내에 배치된 기판 지지 조립체를 구비하는 챔버 본체를 포함하고, 상기 상부 조립체는 덮개를 포함함 - ; 및 가스 패널로부터 프로세싱 챔버의 내부까지 가스의 흐름을 용이하게 하기 위해 상기 챔버 본체 및 상기 덮개에 연결된 가스 피드스루(feedthrough) - 상기 가스 피드스루는 상기 덮개에 외부에서(externally) 연결된 상부 본체와 상기 챔버 본체에 외부에서 연결된
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