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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2012-0078234 (2012-07-18) | |
공개번호 | 10-2014-0011638 (2014-01-29) | |
등록번호 | 10-1415688-0000 (2014-06-30) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020120078234 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2012-07-18) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 플라즈마를 이용한 표면 처리 장치에 관한 것으로서, 구체적으로는 관형 플라즈마 전극을 이용해 피처리물을 관형 전극 내부로 통과시키면서 처리하는 플라즈마 표면 처리 장치에 관한 것이다.
플라즈마 발생용 가스의 공급을 위한 가스 공급구, 상부에 피처리물의 공급을 위한 피처리물 유입구와 하부에 피처리물 및 플라즈마 가스 유출을 위한 피처리물 유출구를 포함한 하우징;상기 하우징을 수직으로 관통하며 상기 하우징 내에 배치되며 상기 피처리물 유입구 및 피처리물 유출구와 소통하는 관형 제 1 전극;상기 관형 제 1 전극의 외부 둘레 방향을 따라 상기 관형 제 1 전극과 마주보도록 상기 관형 제 1 전극으로부터 일정한 거리만큼 이격되어 배치되어 플라즈마 발생 공간을 형성하는, 전도성 소재 또는 소재막 재질로 된 관형 제 2 전
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