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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2013-0023760 (2013-03-06) | |
등록번호 | 10-1330654-0000 (2013-11-12) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020130023760 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2013-03-06) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 소멸 |
본 발명은 포토레지스트 고비점 박리 폐액 재생 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 액정표시장치 또는 반도체 소자 등의 제조공정에서 발생되는 포토레지스트 고비점 박리 폐액으로부터 고가의 고비점 박리 용제를 고순도 전자급 수준으로 용이하게 재생시킬 수 있도록 한 포토레지스트 고비점 박리 폐액 재생 장치에 관한 것이다.즉, 본 발명은 액정표시장치 또는 반도체 소자 등의 제조 공정에서 발생되는 포토레지스트 고비점 박리 폐액에서 저비점 불순물을 제거하는 제1증류장치와, 고비점 불순물 제거와 동시에 박리 용제 조성물을 재생하는 제2증류장치
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