초록 ▼

본 발명은 직접적으로 흐르는 물에 대해서도 균등한 전기장이 확보되어 기존의 물 필름을 만들어내는 방식인 고가의 스월링(swirling) 방식을 대체할 수 있는 액체 공급 장치 및 이를 이용한 플라즈마 수처리 장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다. 이러한 과제를 해결하기 위한 본 발명에 의한 플라즈마를 이용한 액체 처리용 액체 공급 장치는, 고전압 인가 전극과, 상기 고전압 인가 전극으로부터 이격되고 상기 고전압 인가 전극과 대향하도록 배치된 제2 유전체가 형성된 접지 전극을 포함하는 전극 구조체를 포함하여 이루어지고, 상기 접지

본 발명은 직접적으로 흐르는 물에 대해서도 균등한 전기장이 확보되어 기존의 물 필름을 만들어내는 방식인 고가의 스월링(swirling) 방식을 대체할 수 있는 액체 공급 장치 및 이를 이용한 플라즈마 수처리 장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다. 이러한 과제를 해결하기 위한 본 발명에 의한 플라즈마를 이용한 액체 처리용 액체 공급 장치는, 고전압 인가 전극과, 상기 고전압 인가 전극으로부터 이격되고 상기 고전압 인가 전극과 대향하도록 배치된 제2 유전체가 형성된 접지 전극을 포함하는 전극 구조체를 포함하여 이루어지고, 상기 접지 전극의 제2 유전체 상으로 액체 박막층이 형성되도록 구성되고, 상기 이격된 공간은 기체 영역으로서 플라즈마 발생 영역으로 구성되어, 상기 액체 박막층에도 전계(electric field)가 인가되도록 구성되는 것을 특징으로 한다.

대표청구항

플라즈마를 이용한 액체 처리용 액체 공급 장치로서, 고전압 인가 전극과, 상기 고전압 인가 전극으로부터 이격되고 상기 고전압 인가 전극과 대향하도록 배치된 제2 유전체가 형성된 접지 전극을 포함하는 전극 구조체를 포함하여 이루어지고, 상기 접지 전극의 제2 유전체 상으로 액체 박막층이 형성되도록 구성되고, 상기 이격된 공간은 기체 영역으로서 플라즈마 발생 영역으로 구성되어, 상기 액체 박막층에도 전계(electric field)가 인가되도록 구성되는 것을 특징으로 하는 액체 공급 장치.

플라즈마를 이용한 액체 처리용 액체 공급 장치로서, 고전압 인가 전극과, 상기 고전압 인가 전극으로부터 이격되고 상기 고전압 인가 전극과 대향하도록 배치된 제2 유전체가 형성된 접지 전극을 포함하는 전극 구조체를 포함하여 이루어지고, 상기 접지 전극의 제2 유전체 상으로 액체 박막층이 형성되도록 구성되고, 상기 이격된 공간은 기체 영역으로서 플라즈마 발생 영역으로 구성되어, 상기 액체 박막층에도 전계(electric field)가 인가되도록 구성되는 것을 특징으로 하는 액체 공급 장치.