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금속 배선 형성을 위한 다층막 식각액 조성물 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C23F-001/44
  • C23F-001/20
출원번호 10-2014-0032112 (2014-03-19)
공개번호 10-2015-0109091 (2015-10-01)
등록번호 10-2150507-0000 (2020-08-26)
DOI http://doi.org/10.8080/1020140032112
발명자 / 주소
  • 장상훈 / 전라북도 전주시 덕진구 백동*길 **, ***-*** (인후동*가, 대우초원*차아파트)
  • 권민정 / 경상북도 안동시 광명로 ***, ***-*** (태화동, 현대아파트)
  • 심경보 / 전라북도 전주시 덕진구 안덕원*길 **, *-*** (우아동*가, 럭키아파트)
출원인 / 주소
  • 동우 화인켐 주식회사 / 전라북도 익산시 약촌로 *** (신흥동)
대리인 / 주소
  • 특허법인리채
심사청구여부 있음 (2018-07-10)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

본 발명은 금속 배선의 형성을 위한 다층막 식각액 조성물에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 인산 60 내지 70중량%; 질산 2 내지 8 중량%; 초산 5 내지 15 중량%; K3PO4, K2HPO4, KH2PO4, CH3CO2K 및 KNO3로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 하나인 칼륨계 화합물 0.1 내지 7중량%; 아스코르빈산(염) 0.1 내지 5중량%; 및 잔량의 물을 포함함으로써, IZO 투명전도막, 알루미늄계 금속막 및 몰리브덴계 금속막으로 이루어진 다층막을 Tip 불량 없이 미세 선폭으로 식각할 수 있는 식각액 조성물

대표청구항

IZO 투명전도막, 알루미늄계 금속막 및 몰리브덴계 금속막을 포함하는 다층막의 식각액 조성물로서,인산 60 내지 70중량%;질산 2 내지 8 중량%; 초산 5 내지 15 중량%;K3PO4, K2HPO4, KH2PO4, CH3CO2K 및 KNO3로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 하나인 칼륨계 화합물 0.1 내지 7중량%;상기 알루미늄계 금속막의 횡방향 식각속도 억제제로서 아스코르빈산(염) 0.1 내지 5중량%; 및잔량의 물을 포함하는, 식각액 조성물.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. [한국] 다중막의 식각액 조성물 및 그 식각방법 | 서종현
  2. [한국] 금속 배선 형성을 위한 식각액 조성물 | 이석준, 권오병, 심경보
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