최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
---|---|---|
국제특허분류(IPC8판) |
|
|
출원번호 | 10-2014-0047059 (2014-04-19) | |
공개번호 | 10-2015-0120821 (2015-10-28) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020140047059 | |
발명자 / 주소 |
|
|
출원인 / 주소 |
|
|
대리인 / 주소 |
|
|
심사청구여부 | 있음 (2014-04-19) | |
심사진행상태 | 거절결정(재심사) | |
법적상태 | 거절 |
본 발명은 피분석물의 고온 거동 또는 특성 분석을 위한 고온 광학 분석 장치 및 이를 이용한 광학 분석 방법에 관한 것이다.본 발명의 일 실시예에 따른 고온 광학 분석 장치는, 적어도 어느 하나는 투명하고 서로 평행하게 이격 배치되어 에어 갭을 정의하며, 상기 에어 갭 내에 피분석물이 배치되는 평판형 제 1 및 제 2 기판들을 포함하는 고온 챔버; 및 상기 피분석물을 분석하기 위한 광학 분석 장치를 포함하며, 상기 제 1 및 제 2 기판들 중 적어도 어느 하나는 온도 제어 가능한 발열 기판이다.
적어도 어느 하나는 투명하고 서로 평행하게 이격 배치되어 에어 갭을 정의하며, 상기 에어 갭 내에 피분석물이 배치되는 평판형 제 1 및 제 2 기판들을 포함하는 고온 챔버; 및상기 피분석물을 분석하기 위한 광학 분석 장치를 포함하며,상기 제 1 및 제 2 기판들 중 적어도 어느 하나는 온도 제어 가능한 발열 기판인 인시츄 고온 광학 분석 장치.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.