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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2015-0013650 (2015-01-28) | |
등록번호 | 10-1600520-0000 (2016-02-29) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020150013650 | |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2015-01-28) | |
심사진행상태 | 등록결정(재심사후) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 광학 분광 분석 장치에 관한 것으로, 플라즈마를 발생하여 기판을 처리하는 플라즈마 공정 챔버 내의 광을 수집하는 광수집부; 수집된 광을 전달하는 광전달부; 및 광전달부를 통해 제공된 광을 분석하여 플라즈마 상태를 분석하는 분석부를 포함하고, 광수집부는 플라즈마 공정 챔버의 내부에서 발생하는 광을 집속하여 광전달부로 제공하는 집광부를 포함하는 광학 분광 분석 장치를 제공한다.
플라즈마를 발생하여 기판을 처리하는 플라즈마 공정 챔버 내의 광을 수집하는 광수집부;수집된 광을 전달하는 광전달부; 및상기 광전달부를 통해 제공된 광을 분석하여 플라즈마 상태를 분석하는 분석부를 포함하고,상기 광수집부는 상기 플라즈마 공정 챔버의 내부에서 발생하는 광을 집속하여 상기 광전달부로 제공하는 집광부를 포함하며,상기 집광부는 상기 플라즈마 공정 챔버의 내부로부터 입사되는 광의 입사각 범위를 확장시키도록 하여 상기 광을 집속하는 오목렌즈를 포함하며,상기 플라즈마 공정 챔버 내의 광 중에서 웨이퍼 상층부 영역의 광을 수집하도록
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