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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2015-0094042 (2015-07-01) | |
공개번호 | 10-2017-0004126 (2017-01-11) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020150094042 | |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2015-07-01) | |
심사진행상태 | 거절결정(일반) | |
법적상태 | 거절 |
플렉시블 기판에 전도성 회로 패턴을 형성하는 방법이 제공된다. 이 방법은, 구리질화물을 포함하는 페이스트를 제조하는 단계와, 상기 페이스트를 플렉시블 기판에 도포하여 페이스트 패턴을 형성하는 단계 및 상기 페이스트 패턴에 광을 조사하는 광소결 공정을 이용하여 상기 페이스트 패턴으로부터 전도성 회로 패턴을 형성하는 단계를 포함한다.
플렉시블 기판에 전도성 회로 패턴을 형성하는 방법에 있어서, 구리질화물을 포함하는 페이스트를 제조하는 단계;상기 페이스트를 플렉시블 기판에 도포하여 페이스트 패턴을 형성하는 단계; 및상기 페이스트 패턴에 광을 조사하는 광소결 공정을 이용하여 상기 페이스트 패턴으로부터 전도성 회로 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 플렉시블 기판에 전도성 회로 패턴을 형성하는 방법.
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