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특허 상세정보

저온 플라즈마 수처리 장치 및 수처리 방법

국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
C02F-001/467    B01D-035/02    B01F-003/04    C02F-001/461    C02F-001/74    H05H-001/24   
출원번호 10-2015-0140334 (2015-10-06)
등록번호 10-1596869-0000 (2016-02-17)
DOI http://doi.org/10.8080/1020150140334
발명자 / 주소
  • 김문주 / 부산광역시 사하구 낙동대로 ** ,가동***호(괴정동,부영아파트)
출원인 / 주소
  • (주)아이온크린 / 부산광역시 부산진구 엄광로 *** ,***호(가야동, 동의대학교 산학협력관)
대리인 / 주소
  • 이형우
심사청구여부 있음 (2015-10-06)
초록

본 발명은 고도수를 처리하는 수처리 장치 및 방법에 관한 것으로, 더 상세하게는 저온 플라즈마를 이용하여 고도수의 살균 및 멸균 처리를 수행할 할 수 있게 하는 수처리 장치 및 방법에 관한 것이다.본 발명의 실시예에 따른 저온 플라즈마 수처리 장치 및 방법은, 고도수를 인입시키는 인입부;와, 고도수에 첨가된 부유물 및 고체를 필터링시키는 필터부;와, 플라즈마 반응을 활성화시키는 기체 및 액체를 주입시키는 기체주입부 및 액체주입부;와, 저온 플라즈마를 발생시키는 전극장치와, 주입된 기체를 미세기포로 변환시키는 미세기포발생장치를, 포함하는 제1플라즈마발생부;와, 제1플라즈마발생부와 병렬로 설치되되, 플라즈...

대표
청구항

고도수를 인입시키는 워터펌프 및 인입관을 포함하는 인입부;와,상기 인입부에서 인입된 상기 고도수에 첨가된 부유물 및 고체를 필터링시키는 필터부;와,상기 필터부를 거친 상기 고도수에 플라즈마 반응을 활성화시키는 기체를 주입시키는 기체주입부;와,상기 필터부를 거친 상기 고도수에 플라즈마 반응을 활성화시키는 액체를 주입시키는 액체주입부;와,상기 기체주입부 및 상기 액체주입부와 직렬로 설치된 파이프 형상으로 구비되되, 상기 파이프 내부에, 저온 플라즈마를 발생시키는 전극장치와, 상기 기체주입부에서 주입된 기체를 미세기포로 변환시키고 상기 액체주입부에서 주입된 액체를 교반시키는 미세기포발생장치를, 포함하는 제1플라즈마발생부;와,상기 제1플라즈마발생부와 병렬로 설치된 파이프 형상으로 구비되되, 상기 파이프 내부에, 저온 플라즈마를 발생시키는 전극장치와, 상기 기체주입부에서 주입된 기체를 미세기포로 변환시키고 상기 액체주입부에서 주입된 액체를 교반시키는 미세기포발생장치를, 포함하는 제2플라즈마발생부;와,상기 제1플라즈마발생부 내지 상기 제2플라즈마발생부로의 상기 고도수 인입을 제어하는 밸브;와,상기 ...

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