[특허]리튬 이차전지용 전극 집전체 및 그 제조방법

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리튬 이차전지용 전극 집전체 및 그 제조방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/등록특허	크게보기
국제특허분류(IPC8판)	H01M-004/66 H01M-010/052 H01M-004/70
출원번호	10-2016-0069364 (2016-06-03)
공개번호	10-2017-0137355 (2017-12-13)
등록번호	10-2603763-0000 (2023-11-14)
DOI	http://doi.org/10.8080/1020160069364
발명자 / 주소	장혜림 / 대전광역시 유성구 엑스포로 *, SK이노베이션 글로벌테크놀로지(원촌동) 황창묵 / 대전광역시 유성구 엑스포로 *, SK이노베이션 글로벌테크놀로지(원촌동)
출원인 / 주소	에스케이온 주식회사 / 서울특별시 종로구 종로 ** (종로*가, 종로타워빌딩)
대리인 / 주소	특허법인리채
심사청구여부	있음 (2021-05-03)
심사진행상태	등록결정(일반)
법적상태	등록

초록

본 발명은 리튬 이차전지용 전극 집전체에 관한 것으로, 보다 상세하게는 표면에 집전체 물질의 덴드라이트가 성장되어 있으며 최대높이 표면 거칠기(Rmax)가 1 내지 5㎛ 임으로써, 전극 집전체와 전극활물질층간의 접착력을 증가시켜 탈리현상을 방지하고, 접착력 증가를 바탕으로 전극 활물질층의 고밀도화가 가능하며, 전극 집전체와 전극활물질층의 접촉 면적을 증가시킴으로써 전지의 고출력, 고용량 및 용량 유지율 향상이 가능한 리튬 이차전지용 전극 집전체에 관한 것이다.

대표청구항

상면 및 저면을 포함하며, 상기 상면 및 상기 저면으로부터 직접 성장된 집전체 물질의 덴드라이트를 포함하고, 최대높이 표면 거칠기(Rmax)가 1 내지 5㎛인, 리튬 이차전지용 전극 집전체.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (5)

[한국] 무시안화물 단가 구리 전기도금용액 | 브라쉬,윌리암알.
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[한국] 집전체, 부극 및 전지 | 히로세, 다까까즈, 이와마, 마사유끼, 가와세, 겐이찌
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[한국] 3차원 애노드 구조를 갖는 박막 전기화학 에너지 스토리지 디바이스 | 로파틴, 세르게이 디., 브레브노브, 드미트리, 에이., 바크라크, 로버트 제트.
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[일본] PLATING LIQUID, CONDUCTIVE BODY SUBSTRATE HAVING PROJECTING METALLIC STRUCTURE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME | SUGIMASA MASATOSHI
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[일본] NONAQUEOUS ELECTROLYTE SECONDARY BATTERY | HASHIMOTO HIROSHI, OMOMO YOSHITOMO, AOKI URUMI, KURAKAKE ATSUSHI
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관련 콘텐츠

특허 원문 보기

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IPC 상위 출원인

이 특허와 함께 이용한 콘텐츠

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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