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연합인증

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이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

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원자층 증착 또는 화학적 기상증착용 전구체로서의 신규한 유기-지르코늄 화합물 및 그 제조방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C23C-016/455
  • C07F-007/00
  • C23C-016/18
  • C23C-016/34
  • C23C-016/40
출원번호 10-2017-0087997 (2017-07-11)
공개번호 10-2019-0006810 (2019-01-21)
등록번호 10-2418179-0000 (2022-07-04)
DOI http://doi.org/10.8080/1020170087997
발명자 / 주소
  • 장명식 / 경기도 화성시 병점중앙로 *** 월드메르디앙*단지아파트 ***동****호
  • 정영운 / 경기도 평택시 지산로 *** 대림아파트 ***동 ****호
  • 손경호 / 서울특별시 양천구 남부순환로**길 **-*, *층
  • 박영수 / 경기도 화성시 동탄공원로 **-**, ***동****호
  • 홍혁진 / 경기도 수원시 팔달구 화산로 **, ***동****호
  • 김태우 / 강원도 강릉시 지변길***번길 **
출원인 / 주소
  • 주식회사 엘피엔 / 경기도 화성시 동탄대로 ***, ***호(영천동, 에스에이치타임스퀘어)
대리인 / 주소
  • 특허법인다인
심사청구여부 있음 (2020-07-07)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

본 발명은 원자층 증착(ALD : Atomic Layer Deposition) 또는 화학적 기상 증착 (Chemical Vapor Deposition) 공정에 이용되는 자가 제한적 반응(Self-limiting reaction)에 사용되는 금속 전구체(Metal Precursor)를 구성하는 리간드 화합물인 에 관한 것으로, 본 발명은 원자층 증착(ALD : Atomic Layer Deposition) 또는 화학적 기상 증착 (Chemical Vapor Deposition) 공정에 이용되는 전구체(Precursor) 중, 자가 제한

대표청구항

하기 화학식 3의 비스(디메칠아미노)[N-메틸-2-(1,2,3,4,5-펜타메칠싸이클로펜타-2,4-다이엔-1-일)에틸-아미노]지르코늄인 유기-지르코늄 화합물.[화학식 3]상기 화힉식에서 R1은 메틸

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