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연합인증

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베셀빔을 이용한 입자포획광소자 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • G02B-027/00
  • G02B-006/02
출원번호 10-2018-0143578 (2018-11-20)
공개번호 10-2020-0058897 (2020-05-28)
등록번호 10-2127905-0000 (2020-06-23)
DOI http://doi.org/10.8080/1020180143578
발명자 / 주소
  • 박준범 / 대전광역시 서구 갈마로***번길 **-**(가장동)
  • 주보람 / 서울특별시 서대문구 신촌로*길 **(창천동)
  • 오경환 / 서울특별시 영등포구 여의나루로 ***, *동 ***호(여의도동, 서울아파트)
출원인 / 주소
  • 연세대학교 산학협력단 / 서울특별시 서대문구 연세로 ** (신촌동, 연세대학교)
대리인 / 주소
  • 특허법인충현
심사청구여부 있음 (2018-11-20)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

본 발명은 베셀빔을 이용한 입자포획광소자에 관한 것으로, 광이 전달되는 단일모드 광섬유부(SMF), 일단이 상기 단일모드 광섬유부의 말단과 접하며 다중모드 간섭으로 비회절성 베셀빔을 생성하는 코어없는 광섬유부(CSF), 및 일단이 상기 코어없는 광섬유부의 타단에 접하며 상기 코어없는 광섬유부에서 조사되는 상기 베셀빔을 이용하여 입자를 포획하는 입자포획유닛을 포함할 수 있다.

대표청구항 ▼

광이 전달되는 단일모드 광섬유부(SMF);일단이 상기 단일모드 광섬유부의 말단과 접하며 다중모드 간섭으로 비회절성 베셀빔을 생성하는 코어없는 광섬유부(CSF);일단이 상기 코어없는 광섬유부의 타단에 접하며 상기 코어없는 광섬유부에서 조사되는 상기 베셀빔을 이용하여 입자를 포획하는 입자포획유닛; 및일단이 상기 입자포획유닛의 타단에 접하며 포획된 상기 입자를 수용하는 입자저장유닛;을 포함하며,상기 입자저장유닛은 일단이 상기 입자포획유닛의 타단에 접하며 포획한 상기 입자를 중공에 수용하는 중공광섬유부(HOF)를 포함하며,상기 입자포획유닛

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. [한국] 광섬유를 이용하는 광소자 제조 방법, 광섬유를 이용하는 광소자 및 이를 이용한 광 트위저 | 오경환, 김종기, 이세진, 정윤섭, 하우성, 김준기, 정용민
    상세보기
  2. [한국] 베셀 빔 생성용 광 섬유 및 이를 사용하는 광학 이미징 장치 | 김철홍, 오경환, 박성조, 김종기, 이성래, 전만식, 이창호
    상세보기

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