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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2018-7021667 (2018-07-26) | |
공개번호 | 10-2018-0122324 (2018-11-12) | |
등록번호 | 10-2380636-0000 (2022-03-25) | |
우선권정보 | 미국(US) 62/271,591 (2015-12-28) | |
국제출원번호 | PCT/US2016/068060 (2016-12-21) | |
국제공개번호 | WO 2017/116908 (2017-07-06) | |
번역문제출일자 | 2018-07-26 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020187021667 | |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2019-08-27) | |
심사진행상태 | 등록결정(재심사후) | |
법적상태 | 등록 |
피부, 모발 및 손톱용 제제에서, 및 국소제-유도된 피부 자극 및 염증을 감소시키는 조성물 및 방법에서 사용하기 위한 처리된 키토산, 개질된 키토산, 및/또는 개질되고 처리된 키토산을 함유하는 조성물이 개시된다.
국소 자극제에 의해 유도된 피부 자극의 감소 및/또는 피부 염증의 감소에 효과적인 조성물로서,(a) SDS, 또는 레티노이드, 레티노이드 유도체, 또는 레티노이드 전구체를 포함하는 적어도 하나의 국소제, 여기서 상기 레티노이드,레티노이드 유도체, 및 레티노이드 전구체는 레티놀, 레티날, 트레티노인, 레티노산, 비타민 A, 비타민 A 팔미테이트, 이소트레티노인, 알리트레티노인, 에트레티네이트, 아시트레틴, 아다팔렌, 벡사로텐, 및 타자로텐, 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택됨, 및(b) 설폰 아미드 결합을 통해 옥탄 설폰산
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