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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2019-0079819 (2019-07-03) | |
등록번호 | 10-2109403-0000 (2020-05-06) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020190079819 | |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2019-07-03) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 반도체 제조 공정 중 포토레지스트를 세정하는 린스 공정에서 사용된 신너의 폐액을 환원 단계를 거쳐 정제하는 신너 폐액의 정제방법 및 그로부터 수득되는 신너 조성물에 관한 것이다. 본 발명에 따르는 신너 폐액의 정제방법은 반도체 제조 공정 중 포토레지스트를 세정하는 린스 공정에서 사용된 신너의 폐액을 회수하여 이로부터 사이클로헥산온(Cyclohexanone) 및 MAK(Methyl Amyl Ketone)를 제거하여 재사용 가능한 신너 조성물을 제공할 수 있다.
a) 신너 폐액과 NaBH4(Sodium borohydride, 이하 'SBH'라 함)를 반응시켜 상기 신너 폐액 중에 포함된 케톤 화합물을 알코올 화합물로 환원시키는 환원단계, 상기 신너 폐액은 2-Hydroxyisobutyric Acid Methyl Ester(이하 'HBM라 함), Propylene Glycol Methyl Ether Acetate(이하 'PGMEA'라 함), Ethyl Lactate(이하 'EL'이라 함), Methyl Amyl Ketone(이하 'MAK'라 함) 및 사이클로헥산온을 포함하며,상기 신너 폐액
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