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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2019-0097375 (2019-08-09) | |
공개번호 | 10-2021-0017696 (2021-02-17) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020190097375 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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법적상태 | 공개 |
본 발명은 플라즈마 식각 방법에 관한 것이다. 구체적으로 요각을 포함한 경사패턴이 형성된 식각용 기재를 이용하여 회절도광판을 제조하더라도 이형 불량이 발생하지 않는 플라즈마 식각 방법에 관한 것이다.본 발명의 일 실시예는, 식각용 기재의 일면에 개구부를 포함하는 금속 마스크를 구비하는 단계; 플라즈마 식각 장치 내에, 상기 식각용 기재의 타면을 스테이지에 위치시키고 지면 방향과 각을 형성하도록 스테이지를 구비하는 단계; 반응성 가스를 포함한 혼합 가스 내에서 상기 식각용 기재가 이온빔에 의하여 플라즈마 식각을 수행하는 단계; 상기
식각용 기재의 일면에 개구부를 포함하는 금속 마스크를 구비하는 단계;플라즈마 식각 장치 내에, 상기 식각용 기재의 타면을 스테이지에 위치시키고 지면 방향과 각을 형성하도록 스테이지를 구비하는 단계;반응성 가스를 포함한 혼합 가스 내에서 상기 식각용 기재가 이온빔에 의하여 플라즈마 식각을 수행하는 단계;상기 플라즈마 식각 장치 내부의 압력 변화없이 상기 혼합 가스를 비활성 가스로 교체하는 단계;상기 플라즈마 식각된 식각용 기재가 상기 이온빔에 의하여 플라즈마 식각되는 방향과 동일한 방향으로 상기 비활성 가스에 의하여 1 분 이상 5분
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