최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
---|---|---|
국제특허분류(IPC8판) |
|
|
출원번호 | 10-2019-0151468 (2019-11-22) | |
등록번호 | 10-2137707-0000 (2020-07-20) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020190151468 | |
발명자 / 주소 |
|
|
출원인 / 주소 |
|
|
대리인 / 주소 |
|
|
심사청구여부 | 있음 (2019-11-22) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 산화실리콘 나노입자 제조 장치에 관한 것으로써, 보다 상세하게는, 산화실리콘 원료가 용융된 도가니 내부에 반응가스 주입관을 통해 반응가스를 주입함으로써 미세 버블링을 형성하고, 그로 인해 산화실리콘 원료와 반응가스와의 반응 면적을 증가시켜, 산화실리콘 나노입자의 생산량 및 품질을 향상시킬 수 있는 산화실리콘 나노입자 제조 장치에 관한 것이다.
용융된 실리콘이 위치하는 도가니;상기 용융된 실리콘 내부에 반응가스를 주입하는 반응가스 주입관;상기 용융된 실리콘과 상기 반응가스의 반응 활성을 위한 불활성가스를 주입하는 불활성가스 주입관; 및상기 용융된 실리콘과 상기 반응가스가 반응하여 생성된 산화실리콘 나노입자를 포집하는 포집기;를 포함하고,상기 반응가스 주입관은 회전하면서 상기 반응가스를 분사하고 상기 용융된 실리콘에 미세 버블을 형성시켜, 상기 용융된 실리콘과 상기 반응가스의 반응 면적을 증가시키며, 그리고 상기 산화실리콘 나노입자가 상기 포집기에 포집되기 전에 메탈가스를
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.