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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2020-0165377 (2020-12-01) | |
공개번호 | 10-2022-0076656 (2022-06-08) | |
등록번호 | 10-2407857-0000 (2022-06-07) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020200165377 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2020-12-01) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 소멸 |
기재층; 상기 기재층의 일면 상에 형성되고 실리콘 수지를 포함하는 이형층; 및 상기 기재층의 타면 상에 형성되고 불활성 입자 및 전도성 고분자를 포함하는 대전방지층을 포함하는, 이형 필름이 제공된다.
기재층;상기 기재층의 일면 상에 형성되고 실리콘 수지를 포함하는 이형층; 및상기 기재층의 타면 상에 형성되고 불활성 입자 및 전도성 고분자를 포함하는 대전방지층을 포함하고,상기 이형층이 TESA 7475 테이프에 대해 4.0 gf/inch 이하의 이형 박리력을 갖고, 아래 식에 따른 잔류 점착율이 90% 이상으로 측정되는, 이형 필름:잔류 점착율(%) = (이형 박리력 A / 이형 박리력 B) X 100여기서 이형 박리력 A는 Nitto 31B 테이프를 상기 이형층에 부착하였다가 떼어낸 뒤 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름에 부
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