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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2020-7027166 (2020-09-21) | |
공개번호 | 10-2020-0123207 (2020-10-28) | |
등록번호 | 10-2402116-0000 (2022-05-20) | |
우선권정보 | 일본(JP) JP-P-2019-031620 (2019-02-25) | |
국제출원번호 | PCT/JP2020/005552 (2020-02-13) | |
국제공개번호 | WO 2020/175152 (2020-09-03) | |
번역문제출일자 | 2020-09-21 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020207027166 | |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2020-09-21) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
플라즈마 CVD 장치(10)는 막 형성 대상(S)을 수용하는 공간을 구비하는 진공 용기(21), 수소가 없는 이소시아네이트 실란을 저장하고, 상기 진공 용기(21)에 공급되는 이소시아네이트 실란 가스를 발생시키도록 상기 이소시아네이트 실란을 가열하는 저장조(30), 상기 저장조(30)에 의해 발생되는 상기 이소시아네이트 실란 가스를 상기 진공 용기(21)에 공급하도록 상기 저장조(30)를 상기 진공 용기(21)에 연결하는 파이프(11), 상기 파이프(11)의 온도를 83℃ 또는 그보다 크고 180℃ 또는 그보다 작게 조절하는 온도
플라즈마 화학 기상 증착(CVD) 장치에 있어서,막 형성 대상을 수용하도록 구성되는 공간을 포함하는 진공 용기를 포함하고;수소를 함유하지 않은 이소시아네이트 실란(isocyanate silane)을 저장하는 저장조를 포함하며, 상기 저장조는 상기 진공 용기에 공급되는 이소시아네이트 실란 가스를 발생시키기 위해 상기 이소시아네이트 실란을 상기 저장조 내에서 가열하도록 구성되고;상기 저장조에 의해 발생되는 상기 이소시아네이트 실란 가스를 상기 진공 용기로 공급하도록 상기 저장조를 상기 진공 용기에 연결하는 파이프를 포함하며;상기 파이프
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