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연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

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플라즈마 CVD 장치 및 플라즈마 CVD 방법

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C23C-016/509
  • C23C-016/40
  • C23C-016/448
  • C23C-016/455
  • H01L-021/02
  • H01L-029/786
출원번호 10-2020-7027166 (2020-09-21)
공개번호 10-2020-0123207 (2020-10-28)
등록번호 10-2402116-0000 (2022-05-20)
우선권정보 일본(JP) JP-P-2019-031620 (2019-02-25)
국제출원번호 PCT/JP2020/005552 (2020-02-13)
국제공개번호 WO 2020/175152 (2020-09-03)
번역문제출일자 2020-09-21
DOI http://doi.org/10.8080/1020207027166
발명자 / 주소
  • 코바야시, 타다마사 / 일본 ***-**** 카나가와 치가사키시 하기소노 **** 가부시키가이샤 알박 내
  • 자마, 히데아키 / 일본 ***-**** 카나가와 치가사키시 하기소노 **** 가부시키가이샤 알박 내
출원인 / 주소
  • 가부시키가이샤 알박 / 일본 가나가와껭 지가사끼시 하기소노 ****반찌
대리인 / 주소
  • 박영우
심사청구여부 있음 (2020-09-21)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

플라즈마 CVD 장치(10)는 막 형성 대상(S)을 수용하는 공간을 구비하는 진공 용기(21), 수소가 없는 이소시아네이트 실란을 저장하고, 상기 진공 용기(21)에 공급되는 이소시아네이트 실란 가스를 발생시키도록 상기 이소시아네이트 실란을 가열하는 저장조(30), 상기 저장조(30)에 의해 발생되는 상기 이소시아네이트 실란 가스를 상기 진공 용기(21)에 공급하도록 상기 저장조(30)를 상기 진공 용기(21)에 연결하는 파이프(11), 상기 파이프(11)의 온도를 83℃ 또는 그보다 크고 180℃ 또는 그보다 작게 조절하는 온도

대표청구항

플라즈마 화학 기상 증착(CVD) 장치에 있어서,막 형성 대상을 수용하도록 구성되는 공간을 포함하는 진공 용기를 포함하고;수소를 함유하지 않은 이소시아네이트 실란(isocyanate silane)을 저장하는 저장조를 포함하며, 상기 저장조는 상기 진공 용기에 공급되는 이소시아네이트 실란 가스를 발생시키기 위해 상기 이소시아네이트 실란을 상기 저장조 내에서 가열하도록 구성되고;상기 저장조에 의해 발생되는 상기 이소시아네이트 실란 가스를 상기 진공 용기로 공급하도록 상기 저장조를 상기 진공 용기에 연결하는 파이프를 포함하며;상기 파이프

이 특허에 인용된 특허 (1)

  1. [일본] RAW MATERIAL FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION AND METHOD FOR DEPOSITING SILICON-CONTAINING THIN FILM USING THE SAME | SATO HIROKI, MIZUO KATSUHIDE
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