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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2022-0109140 (2022-08-30) | |
공개번호 | 10-2023-0032982 (2023-03-07) | |
등록번호 | 10-2570214-0000 (2023-08-21) | |
우선권정보 | 대한민국(KR) 1020210115120 (2021-08-30) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020220109140 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2022-10-04) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 출원은 다공성의, 휘트록카이트로 이루어진 골이식재에 관한 것이다.
다음을 포함하는, 다공성의, 휘트록카이트로 이루어진 골이식재: 100nm 내지 1000nm 크기의 나노 기공(nano pore), 이때 골이식재의 단위질량 당 상기 나노 기공으로 인해 형성된 부피는 0.15 내지 0.5ml/g이고;1μm 내지 100μm 크기의 마이크로 기공(micro pore), 이때 골이식재의 단위질량 당 상기 마이크로 기공으로 인해 형성된 부피는 0.06 내지 0.35ml/g이고; 및 100μm 내지 1000μm 크기의 매크로 기공(macro pore), 이때 골이식재의 단위질량 당 상기 매크로 기공으로 인해
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