[특허]Cold-cathode ion source

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IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	H01J-001/30 H01J-003/04 H01J-003/40 H01J-007/24
출원번호	US-0551217 (1975-02-19)
발명자 / 주소	Flemming John Peter Wilfred (Hopewell Township Mercer County NJ)
출원인 / 주소	Western Electric Company, Inc. (New York NY 02)
인용정보	피인용 횟수 : 12 인용 특허 : 0

초록 ▼

A cold-cathode ion source includes a specially shaped hollow anode and specially shaped anode-cathode insulators to preclude the buildup of short-circuiting bridges of sputtered cathode material. When used with solid feed material, the source can also include an oven-anode having cavities for vaporizing the solid feed material and passages connecting the cavities to the bore of the anode. The geometry of the oven-anode provides an increasing temperature gradient from the cavities to the bore that minimizes condensation of vaporized feed material that could block the ports.

대표청구항 ▼

An improved cold-cathode ion source comprising: a hollow anode, at least one substantially planar cathode separated from one end of the anode by insulating means and having an aperture therein substantially coaxial with the bore of the anode, and means for creating an axial magnetic field in the bore of the anode, wherein the improvement comprises: the insulating means comprises a body of insulating material having an aperture therein substantially coaxial with the bore of the anode and at least one circumferential groove in the wall of the aperture to inhibit the formation of conducting bridges of sputtered material between the anode and the cathode.

이 특허를 인용한 특허 (12)

Schenkel, Thomas; Ji, Qing; Persaud, Arun; Sy, Amy V., Advanced penning ion source.
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Lee Kon J. (Stratford NJ) Musset Anthony (Haddon Heights NJ) Denton Richard A. (Marlton NJ), External plasma gun.
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Kageyama Katsuhiro (Yokosuka JPX), Ion generating apparatus.
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Ling Peiching, Ion implanters for implanting shallow regions with ion dopant compounds containing elements of high solid solubility.
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Horsky, Thomas N.; Milgate, III, Robert W.; Sacco, Jr., George P.; Jacobson, Dale Conrad; Krull, Wade Allen, Method and apparatus for extracting ions from an ion source for use in ion implantation.
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Matsuda Koji (Shiga JPX) Takagi Toshinori (Kyoto JPX) Ishikawa Junzo (Kyoto JPX), Microwave ion source.
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Siegfried,Daniel E.; Burtner,David Matthew; Townsend,Scott A.; Alexeyev,Valery, Modular ion source.
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Brown Ian G. (1088 Woodside Rd. Berkeley CA 94708) MacGill Robert A. (645 Kern St. Richmond CA 94805), Multi-cathode metal vapor arc ion source.
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Gavin Basil F. (Berkeley CA) MacGill Robert A. (Richmond CA) Thatcher Raymond K. (El Cerrito CA), Penning discharge ion source with self-cleaning aperture.
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Lee Kon J. (Atlanta GA) Musset Anthony (Haddon Heights NJ), Pre-ionization aided sputter gun.
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Strmke Siegfried (Fichtenhain 6 D-5135 Selfkant 4 DEX), Process and apparatus for the surface treatment of workpieces by glow discharge.
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Lim, Chichoy; Tan, Eang Keong; Teh, Weng Aun; Tan, Yi Chun; Lee, Sheik Chian, Sputter deposition shield assembly to reduce cathode shorting.
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IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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