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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0529315 (1974-12-04) |
발명자 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 15 인용 특허 : 0 |
A process is provided for converting silicon and fluorine-containing waste gases into silicon dioxide and hydrogen fluoride, absorbing the waste gases in water to form hydrofluosilicic acid, decomposing the hydrofluosilicic acid in the presence of concentrated sulfuric acid to form silicon tetrafluo
A cyclic process for producing hydrogen fluoride and highly active silicon dioxide from silicon-and fluorine-containing waste gases, the silicon and fluorine being present at least as silicon tetrafluoride and hydrogen fluoride, and also silicon dioxide, if present, which comprises combining water a
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