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Reducing gas sensor and a method of producing the same 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G01N-027/00
  • G01N-033/00
출원번호 US-0618680 (1975-10-01)
우선권정보 JA-0116965 (1974-10-11); JA-0116966 (1974-10-11); JA-0125006 (1974-10-29)
발명자 / 주소
  • Mihara Toshihiro (Hirakata JA) Ayusawa Masatake (Hirakata JA) Matsumoto Keiji (Ibaragi JA) Sato Kunio (Neyagawa JA) Iida Yoshio (Suite JA)
출원인 / 주소
  • Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (JA 03)
인용정보 피인용 횟수 : 22  인용 특허 : 0

초록 ▼

This invention provides a reducing gas sensor which has a gas sensitive element of gg2O3), a pair of electrodes and a heater element. The gag2O3, g3O4 powder on a substrate and applying thereto a pair of electrodes and a heater element; or sintering alpha-ferric oxide (a2O3) and reducing it to magne

대표청구항 ▼

A reducing gas sensor comprising a gas sensitive element composed mainly of gg2O3), a pair of electrodes on said sensitive element, and a heater element adjacent said elements, whereby when said gas sensitive element is heated to an elevated temperature it undergoes a rapid decrease in electrical re

이 특허를 인용한 특허 (22)

  1. Zuckerman Matthew (Carmel CA), Apparatus and method for measuring the concentration of gases.
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  2. Zuckerman Matthew (Carmel CA), Apparatus and method for measuring the concentration of gases.
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  3. Dimeo, Jr., Frank; Chen, Philip S. H.; Neuner, Jeffrey W.; Welch, James; Stawasz, Michele; Baum, Thomas H.; King, Mackenzie E.; Chen, Ing-Shin; Roeder, Jeffrey F., Apparatus and process for sensing fluoro species in semiconductor processing systems.
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  4. Dimeo, Jr.,Frank; Chen,Philip S. H.; Neuner,Jeffrey W.; Welch,James; Stawacz,Michele; Baum,Thomas H.; King,Mackenzie E.; Chen,Ing Shin; Roeder,Jeffrey F., Apparatus and process for sensing fluoro species in semiconductor processing systems.
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  5. Dimeo, Jr.,Frank; Chen,Philip S. H.; Neuner,Jeffrey W.; Welch,James; Stawasz,Michele; Baum,Thomas H.; King,Mackenzie E.; Chen,Ing Shin; Roeder,Jeffrey F., Apparatus and process for sensing fluoro species in semiconductor processing systems.
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  6. Nakatani Yoshihiko (Osaka JPX) Nakatani Seiichi (Kadoma JPX) Sakai Masayuki (Katano JPX) Matsuoka Michio (Ibaragi JPX), Combustible gas detecting element.
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  7. Nakatani Yoshihiko (Osaka JPX) Sakai Masayuki (Katano JPX) Nakatani Seiichi (Neyagawa JPX) Matsuoka Michio (Ibaraki JPX), Combustible gas detecting element.
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  8. Nakatani Yoshihiko (Osaka JPX) Sakai Masayuki (Katano JPX) Nakatani Seiichi (Neyagawa JPX) Matsuoka Michio (Ibaraki JPX), Combustible gas sensor.
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  9. Carbon ; deceased Fred S. (105 Days Ave. late of Buchanan MI) Carbon ; executor by Donald A. (105 Days Ave. Buchanan MI 49107), Double baker for waffles, pancakes and similar food items.
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  10. Maurer Helmut (Schwieberdingen DEX) Rieger Franz (Aalen-Wasseralfingen DEX) Linder Ernst (Mhlacker DEX) Schssler Rainer (Bietigheim-Bissingen DEX), Electrically heated electrochemical sensor construction, particularly to determine oxygen concentration in exhaust gases.
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  11. Ichinose Noboru (Yohohama JPX) Okuma Hideo (Kawasaki JPX) Yokomizo Yuji (Tokyo JPX) Takahashi Takashi (Tokyo JPX) Nishihara Mieko (Kawasaki JPX) Katsura Masaki (Mitaka JPX), Gas detecting element.
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  12. Takahashi Takashi (Toyko JPX) Katsura Masaki (Mitaka JPX) Kaneda Tadao (Yokohama JPX) Hiraki Hideaki (Kawasaki JPX) Shiratori Masayuki (Kawasaki JPX), Gas detecting element.
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  13. Firth Jack G. (St. Albans GB2) Jones Alan (Sheffield GB2) Jones Thomas A. (Sheffield GB2) Mann Brenda (Barnsley GB2), Gas sensors.
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  14. Linder Ernst (Mhlacker DEX) Mller Klaus (Tamm DEX) Maurer Helmut (Schwieberdingen DEX), Heated ion current sensor for high temperatures.
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  15. Murphy Michael P. (Flint MI), Heated solid electrolyte oxygen sensor.
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  16. Murphy Michael P. (Flint MI) Hillebrand George W. (Davison MI), Heated solid electrolyte oxygen sensor.
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  17. Harris Lawrence A. (Schenectady NY), Hydrogen detector.
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  18. Harris Lawrence A. (Schenectady NY), Hydrogen detector.
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  19. Punnoose, Alex, Magnetic gas sensor and methods using antiferromagnetic hematite nanoparticles.
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  20. Lalauze Ren (Saint-Etienne FRX) Pijolat Christophe (Vaulx-en-Velin FRX) Couput Jean-Paul (Saint-Etienne FRX), Method, sensor and device for detecting trace quantities of gases in a gaseous medium.
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  21. Dimeo, Jr.,Frank; Chen,Philip S. H.; Chen,Ing Shin; Neuner,Jeffrey W.; Welch,James, Nickel-coated free-standing silicon carbide structure for sensing fluoro or halogen species in semiconductor processing systems, and processes of making and using same.
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  22. Murphy Michael P. (Flint MI) Willis Raymond D. (Flint MI), Solid electrolyte oxygen sensor with electrically isolated heater.
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