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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0641299 (1975-12-16) |
우선권정보 | JA-0144500 (1974-12-18); JA-0144501 (1974-12-18) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 13 인용 특허 : 0 |
A method of forming thin films wherein a film is formed through glow discharge such as ion plating or sputtering by using a mask whose surface in contact with the surface of the substrate on which the film is formed is provided with a thermostable elastic member, whereby the film, for use in multi-l
A method of forming thin films for use in multi-layer metallization wherein a film having a desired pattern is formed on a substrate by glow discharge in a gas pressure of 101 Torr to 103 Torr, comprising depositing a thin film on the substrate while maintaining a mask having a window forming the de
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