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Electrode type glow discharge method and apparatus 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-015/00
출원번호 US-0554486 (1975-03-03)
발명자 / 주소
  • Penfold Alan S. (Playa del Rey CA) Thornton John A. (Los Angeles CA)
출원인 / 주소
  • Telic Corporation (Santa Monica CA 02)
인용정보 피인용 횟수 : 19  인용 특허 : 0

초록 ▼

An electrode type glow discharge method and apparatus, such as that used for sputtering material from a cathode to provide a coating or the like on materials such as a substrate or substrates. Several exemplary embodiments are disclosed involving various combinations of constructural features includ

대표청구항 ▼

A method of intentionally sputtering material from a target cathode onto a workpiece, comprising the steps of: forming a magnetic field of approximately 300 gauss and below within a confined trap region for high and low energy electrons along said cathode, said magnetic field having field lines clos

이 특허를 인용한 특허 (19)

  1. Zega Bogdan (Geneva CHX), Cathodic sputtering target including means for detecting target piercing.
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  2. Fiala Robert ; Zeigler Dary ; Welson Darren ; Del Real Jose ; Rudolph James W., Combination CVI/CVD and heat treat susceptor lid.
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  3. David A. Glocker, Conical sputtering target.
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  4. Glocker David A., Conical sputtering target.
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  5. Glocker David A., Conical sputtering target.
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  6. Zega Bogdan (Geneva CHX), Cylindrical cathode for magnetically-enhanced sputtering.
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  7. Zega Bogdan (Geneva CHX), Cylindrical magnetron sputtering cathode and apparatus.
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  8. Hoffman David W. (Ann Arbor MI), Cylindrical post magnetron sputtering system.
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  9. Dennis T. Garn ; Jerry S. Lee ; James W. Rudolph, Method and apparatus for cooling a CVI/CVD furnace.
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  10. Fiala, Robert; Rudolph, James W.; Garn, Dennis T.; Lee, Jerry S., Method and apparatus for cooling a CVI/CVD furnace.
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  11. Garn, Dennis T.; Lee, Jerry S.; Rudolph, James W., Method and apparatus for cooling a CVI/CVD furnace.
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  12. Collins George J. (807 W. Oak St. Fort Collins CO 80521) McNeil John R. (13423 Desert Hills NE. Albuquerque NM 87111), Method and apparatus for hermetic coating of optical fibers.
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  13. James Warren Rudolph, Method and apparatus for inhibiting infiltration of a reactive gas into porous refractory insulation.
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  14. Roger A. Ross ; Patrick C. Trujillo ; Robert Fiala, Method and apparatus for pressure measurement in a CVI/CVD furnace.
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  15. Kagadei, Valery A.; Proskurovsky, Dmitry I., Method and apparatus for producing atomic flows of molecular gases.
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  16. Wei, Ronghua, Method and apparatus of plasma-enhanced coaxial magnetron for sputter-coating interior surfaces.
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  17. Wåhlin, Erik Karl Kristian, Multi-grid ion beam source for generating a highly collimated ion beam.
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  18. W책hlin,Erik Karl Kristian, Multi-grid ion beam source for generating a highly collimated ion beam.
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  19. Rudolph James Warren, Sealed reactant gas inlet for a CVI/CVD furnace.
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