[특허]Chemical vapor deposition reactor

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IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	C23C-011/08 B05D-005/12
출원번호	US-0704468 (1976-07-12)
발명자 / 주소	Chern Shy-Shiun (Los Angeles CA) Maserjian Joseph (La Crescenta CA)
출원인 / 주소	California Institute of Technology (Pasadena CA 02)
인용정보	피인용 횟수 : 16 인용 특허 : 0

초록 ▼

An improved chemical vapor deposition reactor is characterized by a vapor deposition chamber configured to substantially eliminate non-uniformities in films deposited on substrates by control of gas flow and removing gas phase reaction materials from the chamber. Uniformity in the thickness of films is produced by having reactive gases injected through multiple jets which are placed at uniformally distributed locations. Gas phase reaction materials are removed through an exhaust chimney which is positioned above the centrally located, heated pad or platform on which substrates are placed. A baffle is situated above the heated platform below the mouth of the chimney to prevent downdraft dispersion and scattering of gas phase reactant materials.

대표청구항 ▼

A chemical vapor deposition reactor comprising: a housing; a horizontally oriented heating platform positioned within said housing, said platform having an upper surface on which substrates are positioned; an exhaust from said housing, said exhaust including an outlet chimney positioned over said heating platform for receiving and removing effluent gases from adjacent said heating platform; a baffle positioned over said heating platform and beneath said outlet chimney, said baffle being a planar member positioned in parallel alignment with the upper surface of said heating platform; reactive gas inlet means positioned adjacent said heating platform along the edge of said heating platform for directing reactive gases over the top of said heating platform and across a substrate positioned thereon to have reactive gases flow toward the center of said heating platform from said edge thereof; and curtain gas inlet means situated adjacent and over said reactive gas inlet means for providing a curtain of non-reactive gas to prevent backflow of said effluent gases.

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A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
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