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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0645148 (1975-12-29) |
우선권정보 | JA-0000300 (1974-12-28) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 28 인용 특허 : 1 |
An image forming process which comprises image-wise exposing a photosensitive material to light, the photosensitive material comprising a support and a substrate with a photopolymerizable material therebetween, and stripping off the support to leave either exposed areas or non-exposed areas of the p
An image forming process which comprises image-wise exposing a photosensitive material to light, the photosensitive material comprising a support and a substrate with a photopolymerizable material therebetween, where either or both of the support or substrate is transparent and image-wise exposing i
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