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Image forming process with photopolymer layers between a support and a substrate 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G03C-011/12
  • G03C-005/00
출원번호 US-0645148 (1975-12-29)
우선권정보 JA-0000300 (1974-12-28)
발명자 / 주소
  • Takeda Keiji (Minami-Ashigara JA) Murata Masataka (Minami-Ashigara JA) Ikeda Teppei (Minami-Ashigara JA)
출원인 / 주소
  • Fuji Photo Film Co., Ltd. (Minami-ashigara JA 03)
인용정보 피인용 횟수 : 28  인용 특허 : 1

초록

An image forming process which comprises image-wise exposing a photosensitive material to light, the photosensitive material comprising a support and a substrate with a photopolymerizable material therebetween, and stripping off the support to leave either exposed areas or non-exposed areas of the p

대표청구항

An image forming process which comprises image-wise exposing a photosensitive material to light, the photosensitive material comprising a support and a substrate with a photopolymerizable material therebetween, where either or both of the support or substrate is transparent and image-wise exposing i

이 특허에 인용된 특허 (1)

  1. Kokawa Tomoo (Hiratsuka JA) Nakao Yoshikathu (Hiratsuka JA) Akiyama Kunio (Hiratsuka JA), Method for forming relief pattern.

이 특허를 인용한 특허 (28)

  1. Larson James M. (Minneapolis MN) Noreen Allen L. (Lake Elmo MN), Composite low surface energy liner of perfluoropolyether.
  2. Larson James M. (Minneapolis MN) Noreen Allen L. (Lake Elmo MN), Composite low surface energy liner of perfluoropolyether.
  3. Chou Hsin-hsin, Dry peel-apart imaging or proofing system.
  4. Chou Hsin-hsin, Dry peel-apart imaging process.
  5. Moriya Takeo (Kawagoe JPX) Yamagata Toshio (Urawa JPX), Dry system image producing element.
  6. Berggren William R. (Woodbury MN) Brownley Shelby J. (St. Paul MN), Imageable, composite-dry transfer sheet and process of using same.
  7. Shimazu Ken-Ichi (Pleasantville NY) Nakayama Takao (Yonkers NY), Imaging peel apart element employing two photohardenable layers.
  8. Eian Gilbert L. (White Bear Lake MN) Trend John E. (Saint Paul MN), Imaging process and article employing photolabile, blocked surfactant.
  9. Eian Gilbert L. (White Bear Lake MN) Trend John E. (St. Paul MN), Imaging process and article employing photolabile, blocked surfactant.
  10. Kroeninger, Werner; Schneegans, Manfred, Method for applying a resist layer, uses of adhesive materials, and adhesive materials and resist layer.
  11. Kröninger, Werner; Schneegans, Manfred, Method for applying a resist layer, uses of adhesive materials, and adhesive materials and resist layer.
  12. Kr��ninger,Werner; Schneegans,Manfred, Method for applying a resist layer, uses of adhesive materials, and adhesive materials and resist layer.
  13. Kido Keishiro (Asaka JPX) Wada Minoru (Asaka JPX) Ikeda Tomoaki (Asaka JPX), Method for forming images.
  14. Cho Kenji (Tokyo JPX) Takamizawa Minoru (Annaka JPX) Inoue Yoshio (Annaka JPX), Method for the preparation of planographic printing plates.
  15. Wilczak Wojciech A. ; Platzer Stephan J. W.,DEX ; Siegfried David L., Negative working, peel developable, single sheet color proofing system.
  16. Kitajima Masao (Asaka JPX) Tachikawa Hiromichi (Asaka JPX) Shinozaki Fumiaki (Asaka JPX) Ikeda Tomoaki (Asaka JPX), Peel-apart process for forming relief images.
  17. Inoue Eiichi (Tokyo JPX) Nakayama Takao (Yokohama JPX), Peel-apart-developable light-sensitive materials and image-forming method using the same.
  18. Eian Gilbert L. (White Bear Lake MN) Trend John E. (Saint Paul MN), Photolabile blocked surfactants and compositions containing the same.
  19. Eian Gilbert L. (White Bear Lake MN) Trend John E. (St. Paul MN), Photolabile blocked surfactants and compositions containing the same.
  20. Kondo Syunichi (Asaka JPX) Matsufuji Akihiro (Asaka JPX) Umehara Akira (Asaka JPX) Ukai Toshinao (Asaka JPX) Sato Akira (Minami ashigara JPX), Photopolymerizable compositions.
  21. Yang, Xiaoguang; Swanson, Basil I.; Du, Xian-Xian, Photopolymerization-based fabrication of chemical sensing films.
  22. Kondo Syuzi (Kyoto JPX) Yamano Akira (Kyoto JPX) Toei Keiji (Kyoto JPX), Photosensitive material with two photosensitive layers for forming separate imaged elements.
  23. Shepherd John V. (7 Apple Tree Yard London GB2) Sutton Eric M. (P.O. Box 45315 Pemba St. Nairobi KEX), Photosensitive materials.
  24. Shepherd John V. (Ashford GB2) Thornley John S. (Ashford GB2), Photosensitive materials for use in making dry transfers.
  25. Venkataraman Ravi, Printer and method of using same to print on thermoplastic medium.
  26. Franke Werner (Wiesbaden DEX), Process for making relief-type recordings.
  27. Cyr Clifford R. (Athens PA) Hagan Nancy C. (East Brunswick NJ), Solvent developable photoresist film.
  28. Takeda Keiji (Asaka JPX), Transfer process with polyester (meth)acrylate as photopolymer.
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