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Low temperature production of high purity fused silica 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C04B-035/14
출원번호 US-0613202 (1975-09-15)
발명자 / 주소
  • Shoup Robert D. (Painted Post NY) Wein William J. (Lowman NY)
출원인 / 주소
  • Corning Glass Works (Corning NY 02)
인용정보 피인용 횟수 : 28  인용 특허 : 0

초록

The instant invention is directed to the production of high purity fused silica bodies by means of a three-step process. In the first step, various specifically-defined ratios of aqueous alkali metal silicates with colloidal silica or quaternary ammonium silicate are gelled with certain organic reag

대표청구항

A method for producing a solid, homogeneous, transparent fused silica article having an alkali metal content less than about 100 PPM which comprises: a. preparing solutions having a pH between about 11-15 and containing about 1-12 moles SiO2/liter in solution from silicate solutions selected from th

이 특허를 인용한 특허 (28)

  1. Heimann, Robert L.; Dalton, William M.; Hahn, John; Price, David M.; Soucie, Wayne L., Aqueous electrolytic medium.
  2. Goldstein, Mark K.; Oum, Michelle S., Carbon monoxide sensor system and related methods.
  3. Heimann Robert L. ; Dalton William M. ; Hahn John ; Price David M., Cathodic process for treating an electrically conductive surface.
  4. Ohtsuka, Keisuke; Tanaka, Hirokazu; Tanaka, legal representative, Eiko, Dental filler.
  5. Heimann Robert L. ; Dalton William M. ; Hahn John ; Price David M. ; Soucie Wayne L., Electrolytic process for forming a mineral.
  6. Heimann, Robert L.; Dalton, William M.; Hahn, John; Price, David M.; Soucie, Wayne L.; Chandran, Ravi, Electrolytic process for treating a conductive surface and products formed thereby.
  7. Heimann, Robert L.; Dalton, William M.; Hahn, John; Price, David M.; Soucie, Wayne L.; Chandran, Ravi, Energy enhanced process for treating a conductive surface and products formed thereby.
  8. Heimann,Robert L; Dalton,William M.; Hahn,John; Price,David M.; Soucie,Wayne L.; Chandran,Ravi, Energy enhanced process for treating a conductive surface and products formed thereby.
  9. Johnson ; Jr. David W. (Pluckemin NJ) MacChesney John B. (Lebanon NJ) Rabinovich Eliezer M. (Summit NJ), Fabrication of sintered high-silica glasses.
  10. Pandelisev, Kiril A., Hot substrate deposition of fused silica.
  11. Helferich Richard L. (Clayton OH) Schenck Robert C. (Kettering OH), Kiln furniture for the firing of ceramic articles.
  12. Helferich Richard L. (Clayton OH), Lightweight hydrogel-bound aggregate shapes and process for producing same.
  13. Samanta Mrinmay (P.O. Box 2322 Washington DC 20013), Low temperature synthesis of vitreous bodies and their intermediates.
  14. Heimann Robert L. ; Dalton William M. ; Hahn John ; Price David M., Method for cathodically treating an electrically conductive zinc surface.
  15. Helferich Richard L. (Clayton OH), Method for manufacture of porous refractory articles.
  16. Mabie Curtis P. (Thurmont MD) Menis Daniel L. (Gaithersburg MD), Method for preparing microporous glassy filler grains for dental resin composites.
  17. Heimann, Robert L.; Flint, Bruce; Chandran, Ravi; Bass, Jonathan L.; Falcone, Jr., James S., Method for treating metallic surfaces and products formed thereby.
  18. Su Sophia R. (Weston MA) Fitzpatrick Leo F. (Sandwich MA), Method of making high purity dense silica of large particle size.
  19. Su Sophia R. (Weston MA) Fitzpatrick Leo F. (Sandwich MA) Robillard Sheryl A. (Leominster MA), Method of making large particle size, high purity dense silica.
  20. Mabie Curtis P. (Thurmont MD) Menis Daniel L. (Gaithersburg MD), Microporous glassy fillers for dental resin composites.
  21. Helferich Richard L. (Clayton OH), Porous ceramic shapes, compositions for the preparation thereof, and method for producing same.
  22. Onorato Paulette I. K. (Sudbury MA) Su Sophia R. (Weston MA), Process for molding optical components of silicate glass to a near net shape optical precision.
  23. Onorato Paulette I. K. (Sudbury MA) Su Sophia R. (Weston MA), Process for molding optical components of silicate glass to a near net shape optical precision.
  24. Edahiro Takao (Ibaraki JPX) Inagaki Nobuo (Ibaraki JPX) Kurosaki Shiro (Kanagawa JPX), Process for producing optical glass product.
  25. Helferich Richard L. (Clayton OH) Schenck Robert C. (Kettering OH), Process for producing porous ceramic filter for filtering of particulates from diesel exhaust gases.
  26. Nakanishi Kazuki (Hirakata JPX), Process for producing porous glass.
  27. Kurosaki Shiro (Osaka JPX), Process for the production of an optical glass article.
  28. Kurosaki Shiro (Yokohama JPX) Watanabe Minoru (Yokohama JPX), Process for the production of an optical glass article.
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