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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0669661 (1976-03-23) |
우선권정보 | PL-162978 (1973-05-31) |
발명자 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 7 인용 특허 : 0 |
Anhydrous hydrogen fluoride is produced from fluorosilicic acid by its decomposition with sulphuric acid in an improved process. Fluorosilicic acid of high concentration 40-50%, free of suspended silica is decomposed while being heated up to its boiling temperature with partial conversion into gaseo
1. An improved process of producing anhydrous hydrogen fluoride from a fluorosilicic acid solution by dehydration and decomposition of said acid with sulphuric acid, which comprises the steps of: a. heating an aqueous fluorosilicic acid solution free of silica suspension and having a concentratio
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