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특허 상세정보

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Catalyst system for the detection and elimination of hydrogen gas

특허상세정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판) C01N-031/10    C01N-031/22    B01J-008/00    H01M-008/06   
미국특허분류(USC) 422/56 ; 73/29.05 ; 422/57 ; 423/219 ; 423/248 ; 423/580 ; 429/57 ; 502/159
출원번호 US-0701273 (1976-06-30)
발명자 / 주소
출원인 / 주소
대리인 / 주소
    Edelberg, NathanKanars, SheldonGordon, Roy E.
인용정보 피인용 횟수 : 18  인용 특허 : 4
초록
▼

A catalyst system for the elimination of hydrogen gas which comprises a polytetrafluoroethylene-bonded catalyst layer of carbon mixed with platinum black, a porous polytetrafluoroethylene film on the side thereof which faces the gas flow, and a metal backplate, all integrally bonded together. The assembly is particularly useful for the elimination of hydrogen gas in sealed equipment housings, for example, those containing batteries. A similar system may also be used as a detector of hydrogen by utilizing a detector paper therewith which indicates the pre...

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이 특허에 인용된 특허 (4)

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  2. Murray John N. (Lutherville MD) Hynek Robert J. (Brookfield WI). Process for generating ultra high purity H2 or O2. USP1976073969481.
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이 특허를 인용한 특허 피인용횟수: 18

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