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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0843558 (1977-10-19) |
우선권정보 | JP-0073349 (1973-07-09); JP-0064465 (1974-06-06); JP-0067700 (1974-06-14); JP-0067701 (1974-06-14) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 13 인용 특허 : 1 |
An improved method of screen gravure photoengraving using a half-tone positive in which the gradation is fully represented by the variations of both sizes and depths of ink cells formed in the printing plate and the formation of moire pattern can be prevented without requiring strict registering in
A method of screen gravure photoengraving using a half-tone positive of the planographic type or the relief type which comprises performing the separate steps of: (a) exposing a photosensitive resist material to a light source through a gravure screen having desired number of transparent crosslines;
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