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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) | C04B-035/56 C01B-031/36 |
미국특허분류(USC) | 106/44 ; 423/345 |
출원번호 | US-0797609 (1977-05-16) |
우선권정보 | JP-0060501 (1976-05-24); JP-0061432 (1976-05-26) |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 | |
인용정보 | 피인용 횟수 : 9 인용 특허 : 0 |
A process and an apparatus for producing silicon carbide consisting mainly of bb2 of 3.2-5.0 into a top portion of a vertical-type reaction vessel having a preheating zone, a heating zone and a cooling zone in this order, descending the starting material by gravity through the reaction vessel, heating the starting material in the heating zone at a temperature of 1,600°-2,100°C. by electrically indirect heating in horizontal direction to effect the formation of SiC, cooling the resulting reaction product in the cooling zone under a non-oxidizing atmospher...
A process for producing silicon carbide consisting mainly of b2 of 3.2-5.0; charging the starting material into a top portion of a vertical-type reaction vessel having a preheating zone, a heating zone and a cooling zone in this order, sAid heating zone having a filling width l of from 0.10 to 0.35 m; descending the charged starting material by gravity through the preheating zone to the heating zone, the descending rate U in m/hr of said charged starting material at the inlet of said heating zone being exp(-7.16 l+0.39)≤U≤exp(-4.63 l+1.72); heating the s...