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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0972593 (1978-12-22) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 14 인용 특허 : 3 |
Method and apparatus for coating a thin film upon a substrate in a vacuum chamber using the sputter deposition technique on both sides of the substrate without rotation of the substrate. The substrate is held between two movable rams and is located between two targets equal to or larger in size than
A sputtering apparatus for coating both sides of a flat substrate comprising: a vacuum chamber; means for evacuating gases from said vacuum chamber; means for inserting a gas capable of supporting a sputtering operation; a plurality of planar cathode/targets, at least two being mounted parallel to e
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