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Method for making photoresists 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G03C-005/00
출원번호 US-0308856 (1972-11-22)
발명자 / 주소
  • Cohen Abraham B. (Springfield NJ) Heiart Robert B. (Middletown NJ)
출원인 / 주소
  • E. I. DuPont de Nemours and Company (Wilmington DE 02)
인용정보 피인용 횟수 : 20  인용 특허 : 0

초록

A process for forming a photoresist which comprises: (1) applying to a surface the surface of a solid unexposed photosensitive layer of thermoplastic photosoluble or photodesensitizable material, the other surface being adhered to a film support, then in either order (2) exposing the layer, and (3)

대표청구항

A process for forming a positive photoresist on a surface which comprises: (1) applying to said surface the surface of a solid, unexposed, positive-working, photosensitive layer comprised of a resist-forming photosoluble or photodesensitizable composition, the other surface of the layer having adher

이 특허를 인용한 특허 (20)

  1. Bennett Allyn N. (Towanda PA), Cover sheet in a photosensitive element.
  2. Schupp Hans (Wachenheim DEX) Elzer Albert (Otterstadt DEX), Dry film resist containing two or more photosensitive strata.
  3. Cohen Abraham B. (Springfield NJ), Laminating process.
  4. Palmer Alan K. (23344 - 46th Avenue ; Langley British Columbia CAX V3A 4R1), Mask for etching, and method of making mask and using same.
  5. Pentak William F. (Houston TX) Burkes Dewey L. (Pasadena TX), Method for creating a design in relief in a hard smooth substrate and apparatus for use in the method.
  6. Koelsch Peter M. (Bloomington MN) Vikesland John P. (Woodbury MN), Multilayer dry-film positive-acting o-quinone diazide photoresist with integral laminable layer, photoresist layer, and.
  7. Platzer Stephan J. W. (Califon NJ) Koletar Gabor I. (Berkeley Heights NJ), Negative working diazo color proofing method.
  8. Kausch, William L., Negative-acting photoresist imaging system.
  9. Vikesland John P. (Woodbury MN), Non-photosensitive transfer resist.
  10. Johnson,Donald W.; Weber,William D.; Waterson,Pamela J.; Urdi,Vincent R.; Molea,Joseph R.; Strand,Thomas Roger, Photoimageable coating composition and composite article thereof.
  11. David P. Sinclair ; Douglas E. Fjare ; John T. Hoback ; Terre L. VanKirk ; Donald E. Rubis ; David A. Wargowski ; Wen-Feng Liu ; Paul A. Sanchez, Photoimageable compositions and films for printed wiring board manufacture.
  12. Fisch Richard S. (St. Paul MN), Photoresist developers and process.
  13. Moriya Takeo (Kawagoe JPX) Yamagata Toshio (Urawa JPX), Photosensitive material and process for developing the same.
  14. Kim, Byoung-Kee; Park, Se-Hyung; Park, Jong-Min; Baek, Seong-In, Positive type dry film photoresist.
  15. Park, Se-Hyung; Kim, Byoung-Kee; Park, Jong-Min; Baek, Seong-In, Positive type dry film photoresist and composition for preparing the same.
  16. Platzer Stephan J. W. (Califon NJ) Koletar Gabor I. (Berkeley Heights NJ) Shadrach Richard L. (Belle Mead NJ), Positive working naphthoquinone diazide color proofing transfer process.
  17. Cohen Abraham B. (Springfield NJ) Webers Vincent J. (Wilmington DE), Positive-working photosensitive elements containing crosslinked beads and process of use.
  18. Choi, John Haetak, Process for patterning non-photoimagable ceramic tape.
  19. Leyrer Reinhold J. (Ludwigshafen DEX) Wegner Gerhard (Denzlingen DEX) Mueller Michael (Waldkirch DEX), Production of resist images, and a suitable dry film resist.
  20. Brattinga, Sjoerd Johannes Franciscus; Kuiper, Hans; Langedijk, Mattheus Franciscus; Wielstra, Ytsen, Protection of a surface by partially subjecting it to an electrochemical treatment.
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