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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0026861 (1979-04-04) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 9 인용 특허 : 1 |
A porous electroplatable body is interiorly electroplated and the like by: making an at least substantial initial capacity filling of all or at least a portion of the void spaces in the body with an appropriate electroplating or other deposit-releasing bath solution or other dispersion; effecting su
Procedure for providing internal surface deposit layers on the walls of void spaces in a porous electroconductive body comprising: at least substantially filling the void space in the porous body with a bath of a therein dispersed electrodepositable substance which forms deposit layers on an opposit
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