최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0950356 (1978-10-11) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 33 인용 특허 : 4 |
Apparatus for sputter depositing two or more layers of material onto a substrate in one operation includes an evacuable chamber containing a transport mechanism, substrate support, and at least two deposition units situated proximate the support. The transport mechanism moves the substrate to and fr
Sputtering apparatus for thin film deposition of at least a first and a second material onto an elongate substrate having a predetermined transverse dimension, comprising: an evacuable chamber including pump means connected thereto for lowering the interior pressure of the chamber; at least a first
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.