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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0953391 (1978-10-23) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 5 인용 특허 : 0 |
A source of hydrogen ions is disclosed and includes a chamber having at one end a cathode which provides electrons and through which hydrogen gas flows into the chamber. Screen and accelerator grids are provided at the other end of the chamber. A baffle plate is disposed between the cathode and the
In a hydrogen ion source of the type comprising a chamber with an electron emitting cathode at the closed end thereof, an accelerator grid at the other end and an anode between the cathode and the accelerator grid, a screen grid being disposed between the anode and the accelerator grid, the improvem
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