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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0947120 (1978-09-29) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 85 인용 특허 : 1 |
A new form of manganese dioxide having an x-ray diffraction pattern resembling none of the x-ray patterns of the known forms of manganese dioxide is manufactured by acid treatment of LiMn2O4.
A manganese dioxide composition having the x-ray diffraction pattern: ________________________________ -dA ________________________________ 4.64 ±0.02 2.42 ±0.02 2.31 ±0.02 2.01 ±0.02 1.84 ±0.02 1.55 ±0.02 1.42 ±0.02 ________________________________ A method of manufacturing a manganese dioxide comp
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