[특허]Solvent stretch process for preparing microporous films from precursor films of controlled crystalline structure

Solvent stretch process for preparing microporous films from precursor films of controlled crystalline structure 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	B29C-011/00 B29C-027/10
출원번호	US-0044805 (1979-06-01)
발명자 / 주소	Soehngen John W. (Berkeley Heights NJ)
출원인 / 주소	Celanese Corporation (New York NY 02)
인용정보	피인용 횟수 : 21 인용 특허 : 0

초록 ▼

Microporous films having improved morphological structure are prepared by the “solvent stretch”method from an olefinic precursor film having a controlled crystalline structure. The crystalline structure of the precursor film is controlled by preparing said film from an olefinic crystalline homopolymer characterized as having a melt index of about 3 to about 20 in the absence of a nucleating agent and a molecular weight distribution ratio of about 3.8 to about 13. In another embodiment the crystalline structure of the precursor film is controlled by incorporating a nucleating agent into the crystalline polymer resin from which the precursor film is prepared which thereby permits a reduction in the melt index of the polymer to about 0.3.

대표청구항 ▼

In a “solvent stretch”process for preparing an open-celled microporous polymeric film from a non-porous polymeric precursor film comprising a crystalline polymer having both an amorphous and a crystalline component, the improvement which comprises utilizing an olefinic homopolymer having (1) a molecular weight distribution ratio of about 3.8 to about 13, (2) optionally a nucleating agent incorporated therein in an amount of from about 0.01 to about 10% by weight of the polymer, and (3) a melt index of about 3 to about 20 when a nucleating agent is not employed, and from about 0.3 to about 20 when a nucleating agent is employed, to provide a precursor film having a spherulite size and orientation sufficient to provide a microporous film therefrom having an improved morphological structure.

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