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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) | G03C-005/00 |
미국특허분류(USC) | 430/320 ; 430/324 ; 430/394 ; 430/396 |
출원번호 | US-0047475 (1979-06-11) |
우선권정보 | DE-2828625 (1978-06-29) |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 | |
인용정보 | 피인용 횟수 : 10 인용 특허 : 1 |
A process for the manufacture of precision flat parts such as masks, templates, and the like having very small openings therein with high contour details yet with substantial material thickness utilizes a metallized glass carrier having a stencil etched thereon with a negative working photo resist laminated on it. Exposure of photo resist is achieved through the glass so that maximum intensity of light in the photo resist occurs at the juncture between the photo resist and the glass carrier for maximum adhesion. Irregularly shaped apertures can be genera...
A process for the manufacture of precision flat parts having apertures formed therein comprising the steps of: metallizing a thin layer of metal on one side of a flat glass substrate; removing selected portions of said metal layer to expose portions of said glass substrate; directly covering said metallized layer and said exposed portions of said glass substrate with a thick layer of negative working photo resist; forming a plurality of tapered developed photo resist areas by exposing said photo resist to a light source which is disposed on an opposite s...