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Fluid flow apparatus and method 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G05D-011/00
출원번호 US-0078461 (1979-09-24)
우선권정보 GB-0037832 (1978-09-22)
발명자 / 주소
  • Collier Nigel A. (13 Frome Close Cove
  • Farnborough
  • Hampshire GB2) Clements John H. (9 Krooner Rd. Camberley
  • Surrey
  • GV15 2AP GB2)
인용정보 피인용 횟수 : 21  인용 특허 : 3

초록

Apparatus for combining fluid flows in variable proportions is adapted for blending an active constituent gas and a diluent gas to calibrate gas analyzers used in monitoring pollution. Diluent gas passes from source 34 through a downstream differential pressure regulator 17 and a constant flow restr

대표청구항

A method of combining fluid flows comprising the steps of: passing a flow of a first fluid through a controlled variable flow restriction; combining the output of said first fluid from the controlled flow restriction with a flow of a second fluid; passing the combined flow of the first and second fl

이 특허에 인용된 특허 (3)

  1. Marcote Roland (19519 Sherman Way ; No. 7 Reseda CA 91335) Eisenberg Steve (5658 Fearing St. Santa Susana CA 93063) Chand Ramesh (2600 Wilshire Blvd. ; Suite 309 Los Angeles CA 90057) Haase Herman (1, Gas sample preparation system and method.
  2. Dobritz Gunter (Lubeck DT), Method and apparatus for mixing two gases in a predetermined proportion.
  3. Fuhrmann Hans (Pannsweg 2 2000 Hamburg 62 DT), Method of and apparatus for automatically detecting traces of organic solvent vapors in air.

이 특허를 인용한 특허 (21)

  1. Homan, Jeffrey J.; Arno, Jose I.; Sweeney, Joseph D., Apparatus and process for integrated gas blending.
  2. Schwaiger, Michael; Goller, Alois; Miggitsch, Christopher, Apparatus for liquid treatment of work pieces and flow control system for use in same.
  3. Minami Yukio,JPX ; Ikeda Nobukazu,JPX ; Shrestha Manohar L.,JPX ; Kagatsume Satoshi,JPX, Backflow prevention apparatus for feeding a mixture of gases.
  4. Mudd, Daniel T.; Mudd, Patti J., Flow control system, method, and apparatus.
  5. Nishio, Kiyoshi, Fluid apparatus such as a pump or an accumulator.
  6. White, William W.; White, William H.; Davis, Christopher B.; Smith, Nelson D., Fluid flow controller and method of operation.
  7. Daniel T. Mudd, Fluid mass flow control valve and method of operation.
  8. Larson,Dean J.; Kadkhodayan,Babak; Wu,Di; Takeshita,Kenji; Yen,Bi Ming; Su,Xingcai; Denty, Jr.,William M.; Loewenhardt,Peter, Gas distribution system with tuning gas.
  9. Trotter, Victor D., Hydraulic control system.
  10. Arno,Jose I.; Dietz,James A., In-situ gas blending and dilution system for delivery of dilute gas at a predetermined concentration.
  11. Rhodes, John R., Method and apparatus for the on-stream analysis of total sulfur and/or nitrogen in petroleum products.
  12. Annapragada, Rao V.; Turmel, Odette; Takeshita, Kenji; Zheng, Lily; Choi, Thomas S.; Pirkle, David R., Method for providing uniform removal of organic material.
  13. Arno, Jose I., Photometrically modulated delivery of reagents.
  14. Arno, Jose I., Photometrically modulated delivery of reagents.
  15. Arno,Jose I., Photometrically modulated delivery of reagents.
  16. Mayeaux Paul Howard, Precision gas blender.
  17. Tsukazaki Hideo,JPX ; Akaike Kazuya,JPX, Preparative liquid chromatography apparatus.
  18. Agosta Vito (42 Cherry La. Huntington NY 11743), Process for metering and mixing liquids in arbitrary mass proportions.
  19. Mudd, Daniel T., Small internal volume fluid mass flow control apparatus.
  20. Larson, Dean J.; Kadkhodayan, Babak; Wu, Di; Takeshita, Kenji; Yen, Bi-Ming; Su, Xingcai; Denty, Jr., William M.; Loewenhardt, Peter, Uniform etch system.
  21. Larson,Dean J.; Kadkhodayan,Babak; Wu,Di; Takeshita,Kenji; Yen,Bi Ming; Su,Xingcai; Denty, Jr.,William M.; Loewenhardt,Peter, Uniform etch system.
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