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Locking mechanism for use in a chuck for an optical alignment and exposure apparatus 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G03B-027/60
출원번호 US-0097331 (1979-11-26)
발명자 / 주소
  • Funk Ernest J. (Cupertino CA) Wing Thomas (Woodland Hills CA) Lane Jack C. (Saratoga CA) Westbrook
  • IV Edward S. (Saratoga CA)
출원인 / 주소
  • Quintel Corporation (San Jose CA 02)
인용정보 피인용 횟수 : 7  인용 특허 : 0

초록

A locking device for use in the chuck of an optical alignment and exposure apparatus is disclosed. The locking device comprises a plurality of flat, flexible blades fastened in pairs to a chuck plate in the chuck. Between each pair of blades there is a stationary element fastened to a base member in

대표청구항

In a chuck for use in an optical alignment and exposure apparatus having a chuck plate supported in a base member and means for urging the chuck plate away from the base member, a locking mechanism for maintaining a fixed relationship between the chuck plate and the base member comprising: flexible

이 특허를 인용한 특허 (7)

  1. Bouwer Adrianus G. (Eindhoven NLX), Device for photolithographically treating a thin substrate.
  2. Isohata Junji (Tokyo JPX) Yamamoto Hironori (Chigasaki JPX) Matsushita Koichi (Chiba JPX), Exposure apparatus.
  3. Chitayat Anwar (Northport NY), High precision workpiece positioning table.
  4. Matsui,Shin, Substrate holding device, semiconductor manufacturing apparatus and device manufacturing method.
  5. Collora George A. (Holbrook NY) Braun Ronald C. (West Islip NY), Universal contoured parts holding fixture.
  6. Lonky, Neal Marc; Gurganian, Albert Steve, Vacuum cup for delivery of agents during vacuum treatment.
  7. Engelbrecht Orest (Bethel CT) Laganza Joseph L. (East Norwalk CT), Wafer transferring chuck assembly.
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