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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0034504 (1979-04-30) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 13 인용 특허 : 1 |
In apparatus having a work chamber in which workpieces are treated under high vacuum, that improvement comprising an inner chamber having a capacity for a plurality of workpieces, an outer chamber, vacuum means for evacuating the inner and outer chambers, a first valve for sealing between the work c
A lock and elevator arrangement for loading workpieces into the work chamber of an electron beam lithography system in which the workpieces are to be treated by an electron beam in a high vacuum, a combination comprising: an inner chamber positioned adjacent said work chamber and having a capacity f
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